環(huán)化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠,。這種膠是將天然橡膠溶解后，用環(huán)化劑環(huán)化制備而成的,。一般來說,，橡膠具有較好的耐腐蝕性，但是它的感光活性很差,。橡膠的分子量在數(shù)十萬以上,，因此溶解性甚低，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難,。因此無法直接采用橡膠為原料配制光刻膠,。這一類光刻膠的重要組成部分為交聯(lián)劑，又稱架橋劑,，可以起到光化學固化作用,，依賴于帶有雙感光性官能團的交聯(lián)劑參加反應，交聯(lián)劑曝光后產(chǎn)生雙自由基,，它和聚烴類樹脂相作用,，在聚合物分子鏈之間形成橋鍵，變?yōu)槿S結構的不溶性物質。光刻膠行業(yè)日系企業(yè)實力雄厚,，國內(nèi)廠商有望復刻成功經(jīng)驗,。昆山光刻膠單體

按顯示效果分類；光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠,。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反,；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同,。

按照化學結構分類；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型,，光交聯(lián)型和化學放大型。光聚合型光刻膠采用烯類單體,，在光作用下生成自由基,，進一步引發(fā)單體聚合，生成聚合物,；光分解型光刻膠,，采用含有重氮醌類化合物(DQN)材料作為感光劑，其經(jīng)光照后,發(fā)生光分解反應,，可以制成正性光刻膠,；光交聯(lián)型光刻膠采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的作用下,，形成一種不溶性的網(wǎng)狀結構,，而起到抗蝕作用，可以制成負性光刻膠,。 普陀光交聯(lián)型光刻膠光引發(fā)劑光刻膠也稱為光致抗蝕劑,，是一種光敏材料，受到光照后特性會發(fā)生改變,，主要應用于電子工業(yè)和印刷工業(yè)領域,。

受制于國內(nèi)光刻膠技術發(fā)展水平，目前我國前沿光刻膠的自給率仍然保持較低水平,。盡管國內(nèi)光刻膠市場保持良好的增長趨勢,，但以KrF、ArF光刻膠為主的半導體光刻膠領域國內(nèi)市場份額仍然較小,，前沿光刻膠市場長期為國外巨頭所壟斷,。從技術水平來看，目前中國本土光刻膠的整體技術水平與國際先進水平存在明顯差距,，且主要集中在技術含量較低的PCB光刻膠領域,，而在半導體光刻膠和LCD光刻膠方面自給率較低,。具體而言，半導體光刻膠中g線/i線光刻膠國產(chǎn)化率為10%,，而ArF/KrF光刻膠的國產(chǎn)化率為1%,，對于前沿的EUV光刻膠目前仍處于研發(fā)階段。

在雙重曝光工藝中,，若光刻膠可以接受多次光刻曝光而不在光罩遮擋的區(qū)域發(fā)生光化學反應,，就可以節(jié)省一次刻蝕，一次涂膠和一次光刻膠清洗流程,。由于在非曝光區(qū)域光刻膠仍然會接受到相對少量的光刻輻射,，在兩次曝光過程后，非曝光區(qū)域接受到的輻射有可能超過光刻膠的曝光閾值E0,，而發(fā)生錯誤的光刻反應,。如果非曝光區(qū)域的光刻膠在兩次曝光后接受到的輻射能量仍然小于其曝光閾值E0，那么就是一次合格的雙重曝光,。從這個例子可以看出，與單次曝光不同,，雙重曝光要求光刻膠的曝光閾值和光刻光源的照射強度之間的權衡,。氧化物型光刻膠：這種類型的光刻膠由氧化硅或其他窄帶隙材料制成。在制造高質量微電子設備時非常有用,。

分辨率即光刻工藝中所能形成較小尺寸的有用圖像,。是區(qū)別硅片表面相鄰圖形特征的能力。一般用關鍵尺寸（CD,，Critical Dimension）來衡量分辨率,。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好 ,。此性質深受光刻膠材質本身物理化學性質的影響,，必須避免光刻膠材料在顯影過程中收縮或在硬烤中流動。因此,，若要使光刻材料擁有良好的分辨能力,，需謹慎選擇高分子基材及所用的顯影劑。分辨率和焦深都是光刻中圖像質量的關鍵因素,。在光刻中既要獲得更好的分辨率來形成關鍵尺寸圖形,，又要保持合適的焦深是非常矛盾的。雖然分辨率非常依賴于曝光設備,，但是高性能的曝光工具需要與之相配套的高性能的光刻膠才能真正獲得高分辨率的加工能力,。以分子玻璃為成膜樹脂制備的光刻膠能夠獲得較高的分辨率和較低粗糙度的圖形。江蘇干膜光刻膠光致抗蝕劑

光刻膠行業(yè)的上下游合作處于互相依存的關系,，市場新進入者很難與現(xiàn)有企業(yè)競爭,，簽約新客戶的難度高,。昆山光刻膠單體

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈中游：為光刻膠制造環(huán)節(jié)，當前全球光刻膠生產(chǎn)制造商主要被日本JSR,、信越化學,、住友化學、東京應化,、美國陶氏化學等制造商所壟斷,，中國本土企業(yè)在光刻膠市場的份額較低，與國外光刻膠制造商相比仍存明顯差距,。

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈下游：主要涉及半導體,、平板顯示器、PCB等領域,。伴隨消費升級,、應用終端產(chǎn)品更新迭代速度加快，下游應用領域企業(yè)對半導體,、平板顯示和PCB制造提出愈加精細化的要求,，將帶動光刻膠行業(yè)持續(xù)發(fā)展。 昆山光刻膠單體