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步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10,，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121,；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,，其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象,，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時,，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,，以借由該宣泄孔1...

所述裝置主體前端表面靠近左上邊角位置設(shè)置有活動板,，所述分隔板右端放置有蓄水箱，所述蓄水箱上端靠近右側(cè)連接有進水管,，所述回流管下端連接有抽水管,，所述抽水管內(nèi)部上端設(shè)置有三號電磁閥，所述裝置主體前端表面靠近右側(cè)安裝有控制面板,。作為本發(fā)明的進一步方案,，所述分隔板與承載板相互垂直設(shè)置，所述電解池內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°,。作為本發(fā)明的進一步方案,，所述進液管的形狀設(shè)計為l型，且進液管貫穿分隔板設(shè)置在進液漏斗與伸縮管之間,。作為本發(fā)明的進一步方案,，所述圓環(huán)塊通過伸縮桿活動安裝在噴頭上方，且噴頭通過伸縮管活動安裝在電解池上方,。作為本發(fā)明的進一步方案,，所述回流管與進水管的形狀均設(shè)計為l型，所述傾斜板的...

引線框架的腐蝕是如何生產(chǎn)的呢,？引線框架的材料主要是電子銅帶,，常見在引線框架中通過亮鎳,、錫和錫鉛鍍層下進行鍍鎳完成保護金屬材料的目的，在材質(zhì)過程中42合金引線相對來說容易發(fā)生應(yīng)力-腐蝕引發(fā)的裂紋,。為了保障引線框架的優(yōu)異的導電性和散熱性,，處理方式通過電鍍銀、片式電鍍線,，將引線和基島表面作特殊處理,，這樣能夠保障焊線和引線框架的良好焊接性能。引線框架電鍍銀蝕刻工藝流程主要分：上料-電解除油-活化-預(yù)鍍銅-預(yù)鍍銀-局部鍍銀-退銀-防銀膠擴散-防銅變色-烘干-收料,。通過該蝕刻工藝流程能夠保障引線框架蝕刻過程中電鍍層的厚度,、光亮度、粗糙度,、潔凈度等,。因此，蝕刻引線框架對工藝和工廠的管理需要嚴格控制,。 維...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部,，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進行實時查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實時性,。推薦的,，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進行制備時需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進行均勻調(diào)和,，由于熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),，濺出容易傷害工作人員,，通過設(shè)置熱水流入漏斗9,，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度,，很好的起到了保護作用,。推薦的，裝置底座5的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架10,，由于制備裝置為一體化裝置,，承載設(shè)備較多，質(zhì)量較重,，對底座會產(chǎn)生較大的壓力，通過設(shè)置加固支架...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?，F(xiàn)象，確實達到保有原始擋液板的擋液效果,，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢,。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上，以對該基板20進行一濕式蝕刻制程,；由上述的說明，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程,，故仍舊會有少量的藥液51噴灑...

當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動,，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象，亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題,；此外,，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題，因此,，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細現(xiàn)象的作用,，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...

使硝酸鉀儲罐21和其它儲罐的內(nèi)部形成一個密閉的空間,，避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進入儲罐內(nèi)，有效的提高了裝置使用的密封性,；緊接著，將磷酸與醋酸在個攪拌倉23中充分攪拌混合均勻，然后在第二個攪拌倉23中與硝酸充分攪拌混合均勻后,，再進入配料罐中混合,，將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三個攪拌倉23混合后再進入第四個攪拌倉23中，與氯化鉀,、硝酸鉀,、去離子水一起在第四個攪拌倉23中混合均勻，然后過濾后封裝,，先檢查過濾板26進行更換或安裝,，過濾部件9的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板26，常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合,，其分散混合性能差,，蝕刻液雜質(zhì)含量多,，過濾板26能將蝕刻...

本實用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置,。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中,，會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進行回收利用，在回收過程中,，廢液在加熱器中通過蒸汽進行換熱,，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進入分離器，會在分離器中發(fā)生閃蒸,，閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,，攜帶有大小不等的液滴，現(xiàn)有技術(shù)因缺乏有效的分離氣液的手段,，含有銅的液體隨著蒸汽被排走,，導致了產(chǎn)品發(fā)生損失。技術(shù)實現(xiàn)要素：基于此,，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)氣液分離率低的問題,，提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,，包括分離器及加熱器,，所述分離器設(shè)有液體入口、蒸汽出口及濾液出口,，所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生...

也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理的問題,。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,，包括裝置主體,，所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,，所述承載板上端表面放置有電解池,，所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜，所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進液漏斗,，所述進液漏斗上設(shè)置有過濾網(wǎng),，所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進液管，所述進液管左端連接有伸縮管,，所述伸縮管下端安裝有噴頭,，所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸，所述液壓缸下端安裝有伸縮桿,，所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊,，所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿，...

可用于銀鎳合金,、銀銅合金以及純銀的蝕刻,，蝕刻后板面平整光滑,。劑對油墨沒有影響，可用于花紋蝕刻處理,。三,、使用方法：1、原液使用,，不須加水,，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高,，速度越快,。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中,。用軟毛刷來回輕輕刷動,，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；或者也可以用搖床,，使藥水來回動運,，使板蝕刻速度加快。但不能超聲波,，以免破壞（感光）油墨,。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度,。30℃→20分鐘→0.1毫米深度,。3、水洗后做后續(xù)處理,。蘇州性價比高的蝕刻液,。格林達蝕刻液什么價格 且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進行拆卸更換，有效的提高了裝置連接安裝的便利性,。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm),。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面,，以及一第二壁面,，且第二擋板具有一下表面，當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中...

本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù)：參照圖1,，可以確認3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分,。3dnand閃存可以通過在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來制造。在不損傷氧化物膜的同時將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一,。一般而言,，氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時*將氮化物膜完全去除的效果。但是,，想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除...

可用于銀鎳合金,、銀銅合金以及純銀的蝕刻,，蝕刻后板面平整光滑,。劑對油墨沒有影響,，可用于花紋蝕刻處理。三,、使用方法：1,、原液使用,，不須加水,，操作溫度可以是25℃-60℃,，溫度越高,，速度越快,。2,、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中,。用軟毛刷來回輕輕刷動,，使藥水與銀充分均勻反應(yīng),；或者也可以用搖床,，使藥水來回動運,，使板蝕刻速度加快,。但不能超聲波,，以免破壞（感光）油墨。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度,。30℃→20分鐘→0.1毫米深度,。3、水洗后做后續(xù)處理,。蝕刻液的類別一般有哪些,。上海銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售廠家 銅蝕刻液適用于印制版銅的蝕刻，蝕刻速度快,。蝕刻速度達4~5um/min,。廢液回收簡單，用于印制板,，...

內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件14,，震蕩彈簧件14頂端的運轉(zhuǎn)電機組13，運轉(zhuǎn)電機組13頂端的控制面板15,，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動孔17共同組合而成,，由于鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,，常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕，影響蝕刻液的質(zhì)量,，用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進行攪拌,，成本過高,，且混合的效果不好,，通過設(shè)置高效攪拌裝置2,，該裝置通過運轉(zhuǎn)電機組13驅(qū)動旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動高效攪拌裝置2進行旋轉(zhuǎn)搖勻，同時設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過驅(qū)動對高效攪拌裝置2進行震蕩搖勻，高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿16，致密防腐桿16內(nèi)部的攪動孔17能夠使蝕刻...

更推薦滿足,。參照圖4,，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于,，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于,，能夠使氧化物膜損傷不良**少,。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上,，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化,。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下,，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此,，即使沒有消耗費用和時間的實際的實驗過程,，也能夠選擇具有目標防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑,。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護對...

步驟一s1：設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10，其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121,；該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11,、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,，其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121,，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,，其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm,，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時,，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122,，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道，以借由該宣泄孔1...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13,、除霧組件3及除沫組件4，所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進行除沫,。含銅蝕刻液在加熱器11中進行加熱，達到閃蒸要求的溫度,，輸送至分離器,，通過減壓閥12減壓，真空泵13對分離器內(nèi)抽氣,，使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,，大液滴中含有銅，通過除霧組件3和除沫組件4對蒸汽進行分離過濾,，也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,，減少產(chǎn)品損失。在一個實施例中,，如圖1所示,，所述除霧組件3為設(shè)有多個平行且曲折的通道的折流...

為本實用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖，以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,，在本實用新型其二較佳實施例中,，開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,，例如：圖4中所示的w1,，其中w1大于圖3的w或圖5的w2,，其中w2大于w，而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm,，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象,，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力,。此外，請參閱圖6與圖7所示...

當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,，亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題；此外,，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,，因此，該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,，例如：孔徑a0小于3mm,，即可因毛細現(xiàn)象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...

鋁板面蝕刻用：酸,、堿都行,。（鋁板是兩性材料，既能與酸反應(yīng),，又能與堿反應(yīng),，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕，有的用酸性材料腐蝕,，一般情況下,，以酸性材料腐蝕的為多，堿性材料可以洗白,。下好料的鋁板用棗木碳研磨，去掉油膩,、劃痕,，磨出啞光表面,。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,，油墨型號為80-39、80-59,、80-49等,。這種耐腐蝕油墨細膩，印出的紋樣質(zhì)量高,。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干，然后用即時貼封住后面,，用膠帶封邊，進入腐蝕工藝,。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量,，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時應(yīng)平放,，在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,，應(yīng)隨時用毛刷去掉，鋁面上冒出大量泡泡,，滓渣隨泡泡浮起...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動,。在地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺之間形成一插槽,，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機構(gòu),，壓緊塊位于插槽中,，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連,。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓在地磅的頂部,。實施例二本實施例基于實施例一,。如圖2所示，在拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在儲存罐外部的護欄70,，以防止其它物品碰撞儲存罐,。實施例三本實施例基于實施例一。如圖3所示,，在拖車的頂部設(shè)置有一集液盒,，儲存罐安裝在集液盒80中，過濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲存罐中拔出時滴落的鋁蝕刻液,，由集液盒進行收集,。實施例四本實施例基于實施例一。...

其中輸送裝置借由至少一呈順時針方向轉(zhuǎn)動的滾輪帶動基板由噴灑裝置的下端部朝向風刀裝置的***風刀的下端部的方向移動。如上所述的蝕刻方法,，其中風刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體,。借此，本實用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果：本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計,，有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異常現(xiàn)象,，確實達到保有原始擋液板的擋液效果,，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導...

操作人員的手會與連接構(gòu)件11接觸，海綿層12可以將操作人員手上的水分進行吸收,，避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時候,，會因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況，有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進行,；然后,，通過連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件進行連接，連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個,，連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉23的底部，連接構(gòu)件11與攪拌倉23固定連接,，連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個構(gòu)件進行連接并固定,，且在將兩構(gòu)件進行連接或拆卸的時候，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,，在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,，再通過連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進行連接，通過...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,。背景技術(shù)：高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液,。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,，過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和,、友好,、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長的特點,。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分,、參與溶解的無機酸/有機酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分,。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),，體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素...

本實用涉及電子化學品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,。背景技術(shù)：近年來,，人們對半導體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時,，對于這些裝置所具有的配線,、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴格,，而蝕刻的效果能直接導致電路板制造工藝的好壞,，影響高密度細導線圖像的精度和質(zhì)量，為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過程中,，對蝕刻速率慢,、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導體裝置的配線的斷路、短路,，得到較高的成品率,，為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度，在蝕刻液中需要加入多種組分,，而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?，F(xiàn)有的高蝕刻速率...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異常現(xiàn)象,，確實達到保有原始擋液板的擋液效果,，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50,，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,，以對該基板20進行一濕式蝕刻制程,；由上述的說明，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程,，故仍舊會有少量的藥液51噴灑...

一種ito蝕刻液及其制備方法,、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法,、應(yīng)用方法,。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜,，以便后續(xù)給電子器件可控通電,。該ito膜通常通過化學蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中,，對于多晶ito(p-ito)材料,，所用蝕刻液主要包括硫酸系,、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低,，但其蝕刻速度快,，蝕刻的角度難以控制，且容易對ito膜的下層金屬造成二次腐蝕,。技術(shù)實現(xiàn)要素：3.有鑒于此,，為克服目前存在的技術(shù)難題，本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法,、應(yīng)用方法,。...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,。背景技術(shù)：高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,，過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,，產(chǎn)物親和、友好,、環(huán)境污染少,，刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分,、參與溶解的無機酸/有機酸組分,，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),，體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素...

對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚,、完整地描述,，顯然，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,，而不是全部的實施例,，基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,，都屬于本實用新型保護的范圍,。實施例一，請參閱圖1-4,，本實用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,，包括裝置主體1、支撐腿2,、電源線3和單片機4,，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2,，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5,，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機4,，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14，裝...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?，F(xiàn)象,，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢,。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50,，該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,，其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,，以對該基板20進行一濕式蝕刻制程；由上述的說明,，擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程,，故仍舊會有少量的藥液51噴灑...