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對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚,、完整地描述，顯然,，所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例,，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,，都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一,，請參閱圖1-4,，本實用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體1,、支撐腿2,、電源線3和單片機4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2,，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3,，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機4,，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14,，裝...

可以維持合適的蝕刻速度且提高sin/sio2選擇比。(b)硅烷系偶聯(lián)劑本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶聯(lián)劑作為防蝕劑可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化時使用,。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以,，更推薦滿足。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦按照蝕刻液組合物的蝕刻程度(etchingamount,，e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來添加,。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦為選自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、雙(三...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅,、氯化鐵,、過硫酸銨、硫酸/鉻酸,、硫酸/雙氧水蝕刻液,。酸性氯化銅，工藝體系,，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細分為氯化銅+空氣體系,、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,，在生產(chǎn)過程中通過補加鹽酸+空氣,、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn),。ITO蝕刻液由氟化銨,、草酸,、硫酸鈉,、氫氟酸、硫酸,、硫酸銨,、甘油、水組成,。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導光性能的材料合成的,。蝕刻液使用時要注意什么？安慶哪家蝕刻液蝕刻液供應 本實用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,，尤...

可用于銀鎳合金,、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑,。劑對油墨沒有影響,，可用于花紋蝕刻處理。三,、使用方法：1,、原液使用，不須加水,，操作溫度可以是25℃-60℃,，溫度越高，速度越快,。2,、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來回輕輕刷動，使藥水與銀充分均勻反應,；或者也可以用搖床,，使藥水來回動運，使板蝕刻速度加快,。但不能超聲波,，以免破壞（感光）油墨。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度,。30℃→20分鐘→0.1毫米深度,。3、水洗后做后續(xù)處理,。蘇州性價比高的蝕刻液,。深圳ITO蝕刻液蝕刻液費用是多少 下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。圖1是實施例一中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)...

使硝酸鉀儲罐21和其它儲罐的內(nèi)部形成一個密閉的空間,，避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進入儲罐內(nèi),，有效的提高了裝置使用的密封性；緊接著,，將磷酸與醋酸在個攪拌倉23中充分攪拌混合均勻,，然后在第二個攪拌倉23中與硝酸充分攪拌混合均勻后，再進入配料罐中混合,，將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三個攪拌倉23混合后再進入第四個攪拌倉23中,，與氯化鉀、硝酸鉀,、去離子水一起在第四個攪拌倉23中混合均勻,，然后過濾后封裝，先檢查過濾板26進行更換或安裝,，過濾部件9的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板26,，常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差,，蝕刻液雜質(zhì)含量多,，過濾板26能將蝕刻...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動。在地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊40,，卡塊與平臺之間形成一插槽,，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動夾緊機構(gòu)，壓緊塊位于插槽中,，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連,。拖車的邊緣沿插槽插入后，氣缸帶動壓緊塊下行將拖車緊緊壓在地磅的頂部,。實施例二本實施例基于實施例一,。如圖2所示，在拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在儲存罐外部的護欄70，以防止其它物品碰撞儲存罐,。實施例三本實施例基于實施例一,。如圖3所示，在拖車的頂部設(shè)置有一集液盒,，儲存罐安裝在集液盒80中,，過濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲存罐中拔出時滴落的鋁蝕刻液，由集液盒進行收集,。實施例四本實施例基于實施例一,。...

12、伸縮桿,；13,、圓環(huán)塊；14,、連接桿,；15、回流管,；16,、增壓泵；17,、一號排液管,；18,、一號電磁閥,；19、抽氣泵,；20,、排氣管；21,、集氣箱,；22、二號排液管,；23,、二號電磁閥；24,、傾斜板,；25、活動板,；26,、蓄水箱；27、進水管,；28,、抽水管；29,、三號電磁閥,；30、控制面板,。具體實施方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,，顯然,，所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例,?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,，都屬于本發(fā)明保護的范圍,。請參閱圖1-5，本發(fā)明提供一種技術(shù)方...

以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風刀裝置40的該***風刀41下端部的方向移動,。該風刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,，該風刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風刀41，以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風刀42,，其中該***風刀41與該第二風刀42分別吹出一氣體43至該基板20,，以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進方向，以使該基板20上該藥液51減少,，其中該氣體43遠離該***風刀41與該第二風刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,，且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外,，請一并參閱圖8與圖9所示,，為本實用新型蝕...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型所解決的技術(shù)問題即在于提供一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,，主要借由具有復數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計,，有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板顯影不均等異?，F(xiàn)象,，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導致的基板刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢,。本實用新型所采用的技術(shù)手段如下所述,。為了達到上述的實施目的,，本實用新型提出一種擋液板結(jié)構(gòu)，適用于一濕式蝕刻機,，擋液板...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°,，進液管8的形狀設(shè)計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間,，圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方,，且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方，通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12,，能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時,，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動,，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護...

為本實用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,，以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,，在本實用新型其二較佳實施例中，開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,，例如：圖4中所示的w1，其中w1大于圖3的w或圖5的w2,，其中w2大于w,，而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細現(xiàn)象,，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時,，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力,。此外,，請參閱圖6與圖7所示...

近年來，oled顯示器廣泛應用于手機和平板顯示,。金屬銀以優(yōu)異的電導率和載流子遷移率被廣泛應用于oled顯示器的陽極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中,。為了對此進行蝕刻，目前主要使用基于磷酸,、硝酸,、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna),。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀，但在實際使用過程中仍會存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問題,。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過程中存在少量的銀殘留,、銀再吸附沉積問題。5.本發(fā)明通過以下技術(shù)手段實現(xiàn)解決上述技術(shù)問題的：6.一種銀蝕刻液組合物,，其成分由質(zhì)量占比為40-60％磷酸,、2-10％硝酸,、％有機酸,、％硝酸鹽、％含氮元素有機物,、其...

本實用涉及電子化學品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,，具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來,，人們對半導體裝置,、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時，對于這些裝置所具有的配線,、電極等的微小化,、高性能化的要求也越來越嚴格，而蝕刻的效果能直接導致電路板制造工藝的好壞,，影響高密度細導線圖像的精度和質(zhì)量,，為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過程中，對蝕刻速率慢,、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導體裝置的配線的斷路,、短路，得到較高的成品率,，為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度,，在蝕刻液中需要加入多種組分，而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?，F(xiàn)有的高蝕刻速率...

將hno3,、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對應的原料罐,，備用,；第三步：根據(jù)混酸配制表算出各個原料的添加量，按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,，將上述混料充分攪拌,，攪拌時間為3～5h；第四步：在第三步的混料中再添加h2o2,，繼續(xù)攪拌混勻,，攪拌時間為3～5h,，用磁力泵將混合液通過過濾器循環(huán)過濾。作為推薦的技術(shù)方案,，所述磁力泵出口壓力≤,，過濾器入口壓力≤。根據(jù)制備銅蝕刻液的原料確定磁力泵的出口壓力和過濾器的入口壓力,，包裝原料可以被充分過濾,。作為推薦的技術(shù)方案，所述調(diào)配罐內(nèi)的溫度設(shè)定在30～35℃,。調(diào)配罐的溫度不能超過35℃,，由于過氧化...

負的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,，上述氧化物膜推薦包含sio2,，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化,。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時,，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化,。因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物...

銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學品產(chǎn)品，廣泛應用于平板顯示,、LED制造及半導體制造領(lǐng)域,。隨著新技術(shù)的不斷進步，對該蝕刻液也有了更高的要求,。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟,、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進行了無氟,，無硝酸,，低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā)，并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝,。產(chǎn)品特點：1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm,。2.末期銅蝕刻液工藝溫度（32）下可穩(wěn)定72H，常溫可穩(wěn)定120H,；無暴沸現(xiàn)象,。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好，taper符合制程要求,。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機種。蝕刻液,，專業(yè)配方,，穩(wěn)定可靠...

上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于,，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以。以下,，通過實施例更加詳細地說明本發(fā)明,。但是，以下的實施例用于更加具體地說明本發(fā)明,，本發(fā)明的范圍并不受以下實施例的限定,。實施例和比較例的蝕刻液組合物的制造參照以下表1(重量％)，制造實施例和比較例的蝕刻液組合物,。[表1]參照以下表2和圖5,，利用實施例和比較例的蝕刻液組合物，對于包含作為氧化物膜sio2和作為上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的,、總厚度的膜進行如下處理,。在160℃用硅烷系偶聯(lián)劑％對上述膜處理10,000秒的...

本實用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置,。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中,，會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進行回收利用，在回收過程中,，廢液在加熱器中通過蒸汽進行換熱,，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進入分離器，會在分離器中發(fā)生閃蒸,，閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,，攜帶有大小不等的液滴，現(xiàn)有技術(shù)因缺乏有效的分離氣液的手段,，含有銅的液體隨著蒸汽被排走,，導致了產(chǎn)品發(fā)生損失。技術(shù)實現(xiàn)要素：基于此,，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)氣液分離率低的問題,，提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,，包括分離器及加熱器,，所述分離器設(shè)有液體入口、蒸汽出口及濾液出口,，所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm),。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面,，且第二擋板具有一下表面,，當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),，其中...

負的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,，上述氧化物膜推薦包含sio2,，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化,。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時,，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化,。因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物...

所述液位計7安裝于所述分離器的外表面。液位計7安裝在方便工作人員查看的位置,，有利于提高工作人員工作的效率,。在一個實施例中，如圖1所示,，所述液位開關(guān)9為控制閥,，設(shè)置于所述濾液出口2處?？刂崎y為內(nèi)螺紋截止閥,，通過旋轉(zhuǎn)操縱盤實現(xiàn)閥門的開關(guān)，這種閥結(jié)構(gòu)簡單,，維修方便,，工作行程小，啟閉時間短,，使用壽命長,。在一個實施例中，如圖2所示，所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡10,。分離器側(cè)壁上設(shè)置的視鏡10可以幫助工作人員輔助判斷液位計7的工作狀況,。在一個實施例中,，如圖1所示,，所述加熱器11為盤管式加熱器。盤管式加熱器的受熱更加均勻,，加熱效率更高,。在一個實施例中，如圖1所示,，所述分離器底部為錐體形狀,。分離器底...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計為5°,，進液管8的形狀設(shè)計為l型，且進液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進液漏斗6與伸縮管9之間,，圓環(huán)塊13通過伸縮桿12活動安裝在噴頭10上方,，且噴頭10通過伸縮管9活動安裝在電解池4上方,，通過設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過進液管8流入到電解池4中時,，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動噴頭10向上移動,，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,，具有保護...

鋁板面蝕刻用：酸,、堿都行。（鋁板是兩性材料,，既能與酸反應,，又能與堿反應，所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,，有的用酸性材料腐蝕,，一般情況下，以酸性材料腐蝕的為多,，堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,，去掉油膩,、劃痕,，磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,，油墨型號為80-39、80-59,、80-49等,。這種耐腐蝕油墨細膩,，印出的紋樣質(zhì)量高。印完紋樣后放進電爐內(nèi)烘干,，然后用即時貼封住后面，用膠帶封邊,，進入腐蝕工藝,。鋁板的腐蝕液配方如下：三氯化鐵50%硫酸銅50%水適量,，波美度15～20°之間，鋁板腐蝕時應平放,，在腐蝕的過程中紋樣上溢出赭紅色的滓渣,，應隨時用毛刷去掉,，鋁面上冒出大量泡泡，滓渣隨泡泡浮起...

本實用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域,，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中,，會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進行回收利用,，在回收過程中，廢液在加熱器中通過蒸汽進行換熱,，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進入分離器，會在分離器中發(fā)生閃蒸,，閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,，攜帶有大小不等的液滴,，現(xiàn)有技術(shù)因缺乏有效的分離氣液的手段，含有銅的液體隨著蒸汽被排走,，導致了產(chǎn)品發(fā)生損失。技術(shù)實現(xiàn)要素：基于此,，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)氣液分離率低的問題,，提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置，包括分離器及加熱器,，所述分離器設(shè)有液體入口,、蒸汽出口及濾液出口,，所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生...

下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,。圖1是實施例一中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖2是實施例二中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖,；圖3是實施例三中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖,；圖4是實施例四中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖,，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,。實施例一鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備,，包括混合罐、過濾器和數(shù)個小型的儲存罐,，混合罐通過液管與過濾器連接,，過濾器的出液口處安裝有氣動升降式出液管，每個儲存罐的進液口和出液口中安裝有一只單向液動閥,，過濾器的出液管自動下行插入儲存罐的進液口中,，將過濾后的鋁蝕刻液注入儲...

所述有機硫化合物具有作為還原劑及絡(luò)合劑(chelate)的效果。作為所述硫酮系化合物,，例如可舉出硫脲、N-烷基硫脲,、N,N-二烷基硫脲,、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲,、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲,、N,N-二苯基硫脲,、N,N'-二苯基硫脲及亞乙基硫脲等,。烷基硫脲的烷基并無特別限制，推薦為碳數(shù)1至4的烷基,。這些硫酮系化合物中,，推薦使用選自由作為還原劑或絡(luò)合劑的效果及水溶性優(yōu)異的硫脲,、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。作為所述硫醚系化合物,，例如可舉出甲硫氨酸,、甲硫氨酸烷基酯鹽酸鹽、乙硫氨酸,、2-羥基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等,。烷...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅,、堿性氯化銅、氯化鐵,、過硫酸銨,、硫酸/鉻酸,、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅,，工藝體系,，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細分為氯化銅+空氣體系,、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,，在生產(chǎn)過程中通過補加鹽酸+空氣,、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn),。ITO蝕刻液由氟化銨,、草酸、硫酸鈉,、氫氟酸,、硫酸,、硫酸銨、甘油,、水組成,。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導光性能的材料合成的。蝕刻液公司的聯(lián)系方式,。廣東市面上哪家蝕刻液商家 因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時會過度耗費時間和費用的問題。美...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13,、除霧組件3及除沫組件4,，所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進行除沫,。含銅蝕刻液在加熱器11中進行加熱,，達到閃蒸要求的溫度，輸送至分離器,，通過減壓閥12減壓,，真空泵13對分離器內(nèi)抽氣，使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,，閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,，大液滴中含有銅，通過除霧組件3和除沫組件4對蒸汽進行分離過濾,，也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,，減少產(chǎn)品損失。在一個實施例中,，如圖1所示，所述除霧組件3為設(shè)有多個平行且曲折的通道的折流...

更推薦滿足。參照圖4,，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于,，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少,。因此,，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上，能夠使因副反應氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化,。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力,，由此,，即使沒有消耗費用和時間的實際的實驗過程，也能夠選擇具有目標防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑,。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護對...

本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備,。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐,，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻,，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售,。以往,，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起,，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產(chǎn)企業(yè)得到廣泛應用,，但是，我司的鋁蝕刻液生產(chǎn)車間面積較小,，無法放置自動灌裝線,，所以需要對現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備進行改造，以實現(xiàn)鋁蝕刻液的全自動灌裝,。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題,。為達前述目的,，本實用新型提供的技術(shù)方案如下：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐,、過濾器、數(shù)個儲存罐,、數(shù)輛液壓升降式拖...