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上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于，選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以,。以下,，通過(guò)實(shí)施例更加詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明,。但是,，以下的實(shí)施例用于更加具體地說(shuō)明本發(fā)明,，本發(fā)明的范圍并不受以下實(shí)施例的限定,。實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物的制造參照以下表1(重量％)，制造實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物,。[表1]參照以下表2和圖5,，利用實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物,，對(duì)于包含作為氧化物膜sio2和作為上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的,、總厚度的膜進(jìn)行如下處理,。在160℃用硅烷系偶聯(lián)劑％對(duì)上述膜處理10,000秒的...

本實(shí)用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種ito蝕刻液制備裝置,。背景技術(shù)：蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),，蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,，其中,，濕蝕刻是采用化學(xué)試劑，經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,，薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft～lcd),、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過(guò)程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?，F(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會(huì)發(fā)***熱反應(yīng),，使得裝置外殼穩(wěn)定較高，工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),，熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),，濺出容易傷害工作人員，保護(hù)性不足,，鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性，常規(guī)的攪...

推薦的,，所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜。推薦的,，所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件,，震蕩彈簧件頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,，運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組頂端的控制面板，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔共同組合而成,。推薦的,，所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口，嵌入引流口一端的負(fù)壓引流器,，負(fù)壓引流器一端的注入量控制容器,，注入量控制容器內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成。與現(xiàn)有技術(shù)相比,，本種實(shí)用新型的有益效果是:1.通過(guò)設(shè)置高效攪拌裝置,，該裝置通過(guò)運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)高效攪...

經(jīng)除霧組件3除霧后的氣體會(huì)夾帶著泡沫,，泡沫中還是含有銅元素，為進(jìn)一步提高回收效率，需對(duì)氣體和泡沫進(jìn)行分離，泡沫與絲網(wǎng)碰撞時(shí)會(huì)吸附在絲網(wǎng)的細(xì)絲表面，細(xì)絲表面上泡沫不斷累積和泡沫的重力沉降，使泡沫形成較大的液滴沿細(xì)絲流至兩根絲的交點(diǎn),，當(dāng)液滴累積至其自身產(chǎn)生的重力超過(guò)氣體的上升力和液體表面張力合力時(shí),，液滴就從細(xì)絲上分離下落,，氣體在通過(guò)絲網(wǎng)除沫后,，基本上不含泡沫,。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示,，所述分離器設(shè)有液位計(jì)7、液位開關(guān)9、液相氣相溫度傳感器6和壓力傳感器8。蒸汽從加熱器11到分離器會(huì)因分離器內(nèi)壓力小而發(fā)生閃蒸，產(chǎn)生二次蒸汽，使氣液分離的效率更高，所以要維持分離器內(nèi)的壓力不變,，通過(guò)觀察液位計(jì)...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置,，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°,，進(jìn)液管8的形狀設(shè)計(jì)為l型，且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間,，圓環(huán)塊13通過(guò)伸縮桿12活動(dòng)安裝在噴頭10上方,，且噴頭10通過(guò)伸縮管9活動(dòng)安裝在電解池4上方，通過(guò)設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12,，能夠在蝕刻液通過(guò)進(jìn)液管8流入到電解池4中時(shí)，啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),，從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),，進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,，具有保護(hù)...

618光電行業(yè)ITO**蝕刻液,專門針對(duì)氧化銦錫(ITO)玻璃導(dǎo)電薄膜鍍層圖線的脫膜蝕刻,它對(duì)于高阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)以及低阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)都且有優(yōu)良的蝕刻速度與效果,。具有速度快,、側(cè)蝕小、無(wú)沉淀,、氣味小,、不攻擊抗蝕層,不攻擊基材,操作控制簡(jiǎn)便靈活等非常***的優(yōu)點(diǎn),可采取自動(dòng)控制系統(tǒng)補(bǔ)加,也可人工補(bǔ)加方式。更重要的是絲毫不改變產(chǎn)品的導(dǎo)電阻抗電性數(shù)據(jù),。二、產(chǎn)品特點(diǎn)1)速度快市場(chǎng)之一般ITO蝕刻液速度大都在0.5nm/s,而KBX-618AITO蝕刻液蝕刻速度正?？刂圃?-10nm/s,速度快(具體設(shè)備情況有所差異)2)氣味小、無(wú)煙霧,、對(duì)皮膚刺激*目前市場(chǎng)蝕...

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21，裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,，裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過(guò)濾部件9,，裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8,，收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7，過(guò)濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24,，過(guò)濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,，連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29,。推薦的,，硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,，在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入...

該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11,、一與該***擋板11接合的第二擋板12,，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,，其主要特征在于：該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121,。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置,，且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設(shè)置,，以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣,，在一實(shí)施例中,，該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形,，其中該第二擋板12的長(zhǎng)度h介于10cm至15cm之間,，而該等開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列的態(tài)樣，且該宣...

將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,，具有很好的清理作用。工作原理：對(duì)于這類的回收處理裝置,，首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過(guò)濾網(wǎng)7過(guò)濾到進(jìn)液管8中，之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),，啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng)，從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),，進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,，避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,，具有保護(hù)電解池4的功能，之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出,；其次在蝕刻液初次電解后，通過(guò)控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開一號(hào)電磁閥18,，將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,，并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,，直至蝕刻...

本發(fā)明涉及一種用來(lái)在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,。背景技術(shù)：以往,，在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過(guò)氧化氫的蝕刻液,。例如專利文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液，該鈦的蝕刻液是用來(lái)在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,，并且該蝕刻液的特征在于：利用由10重量％至40重量％的過(guò)氧化氫,、％至5重量％的磷酸,、％至％的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9,。但是,，含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問(wèn)題，含有過(guò)氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問(wèn)題?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特許第4471094號(hào)說(shuō)明書。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的問(wèn)題本發(fā)明是鑒于所述實(shí)際情況而成,，其目的在于...

可以維持合適的蝕刻速度且提高sin/sio2選擇比。(b)硅烷系偶聯(lián)劑本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶聯(lián)劑作為防蝕劑可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化時(shí)使用,。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以，更推薦滿足,。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦按照蝕刻液組合物的蝕刻程度(etchingamount,，e/a)滿足以上以下的范圍的濃度來(lái)添加,。上述硅烷系偶聯(lián)劑推薦為選自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate),、雙(三...

在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下，能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,，且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水,，推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水,。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量％的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2～45重量％來(lái)包含,。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,，本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對(duì)上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法,、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的...

所述制備裝置主體的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置,，所述制備裝置主體的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板,，所述制備裝置主體的底端固定連接有裝置底座,，所述裝置底座的內(nèi)部底部固定連接有成品罐,，所述裝置底座的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐，所述裝置底座的頂端另一側(cè)固定連接有硝酸裝罐,，所述高效攪拌裝置的內(nèi)部頂部中間部位活動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，所述高效攪拌裝置的內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)活動(dòng)連接有震蕩彈簧件,，所述震蕩彈簧件的頂端固定連接有運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,，所述運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組的頂端電性連接有控制面板,，所述高效攪拌裝置的內(nèi)部中間部位固定連接有致密防腐桿,，所述致密防腐桿的內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)貫穿連接有攪動(dòng)孔，所述鹽酸裝罐的內(nèi)部一側(cè)嵌入連接有...

更推薦滿足。參照?qǐng)D4,，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于,，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少,。因此,，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上,，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下,，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此,，即使沒(méi)有消耗費(fèi)用和時(shí)間的實(shí)際的實(shí)驗(yàn)過(guò)程，也能夠選擇具有目標(biāo)防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑,。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護(hù)對(duì)...

銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于平板顯示,、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,。隨著新技術(shù)的不斷進(jìn)步，對(duì)該蝕刻液也有了更高的要求,。并且之前市場(chǎng)上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟,、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進(jìn)行了無(wú)氟,，無(wú)硝酸,，低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā)，并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝,。產(chǎn)品特點(diǎn)：1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm,。2.末期銅蝕刻液工藝溫度（32）下可穩(wěn)定72H，常溫可穩(wěn)定120H,；無(wú)暴沸現(xiàn)象,。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好，taper符合制程要求,。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機(jī)種,。蘇州博洋化學(xué)股份專業(yè)生產(chǎn)B...

在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下，能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,，且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能,。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水，推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水,。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量％的余量,。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2～45重量％來(lái)包含,。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,，本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對(duì)上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法,、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機(jī)電激發(fā)光顯示器,，多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料,。但是因?yàn)殂t金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料,。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料,，但是因?yàn)闊o(wú)適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***的運(yùn)用,。近幾年為提高平面顯示裝置的效能,，研究者仍專注于如何降低導(dǎo)線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當(dāng)?shù)膶?dǎo)線材料,，因其阻值低于其他的金屬。此外,，含銀量超過(guò)80％以上的銀合金,，雖然阻值未若銀金屬一般低，但是其阻值遠(yuǎn)低于鉻金屬,。然而由于銀合金未具有適當(dāng)?shù)奈g刻液,，所以并沒(méi)有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此,，本于積極發(fā)明的精神,，亟思一...

本實(shí)用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置,。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中,，會(huì)對(duì)已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進(jìn)行回收利用，在回收過(guò)程中,，廢液在加熱器中通過(guò)蒸汽進(jìn)行換熱,，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進(jìn)入分離器，會(huì)在分離器中發(fā)生閃蒸,，閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,，攜帶有大小不等的液滴，現(xiàn)有技術(shù)因缺乏有效的分離氣液的手段,，含有銅的液體隨著蒸汽被排走,，導(dǎo)致了產(chǎn)品發(fā)生損失。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：基于此,，有必要針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)氣液分離率低的問(wèn)題,，提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置，包括分離器及加熱器,，所述分離器設(shè)有液體入口,、蒸汽出口及濾液出口，所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生...

也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理的問(wèn)題,。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,，包括裝置主體,，所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,，所述承載板上端表面放置有電解池,，所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜，所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進(jìn)液漏斗,，所述進(jìn)液漏斗上設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng),，所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進(jìn)液管，所述進(jìn)液管左端連接有伸縮管,，所述伸縮管下端安裝有噴頭，所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸,，所述液壓缸下端安裝有伸縮桿，所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊,，所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿,，...

蝕刻液也可含有α-羥基羧酸和/或其鹽。α-羥基羧酸及其鹽具有作為鈦的絡(luò)合劑的效果,，可抑制蝕刻液中產(chǎn)生鈦的沉淀,。作為所述α-羥基羧酸，例如可舉出酒石酸,、蘋果酸,、檸檬酸、乳酸及甘油酸等,。α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制,，從絡(luò)合效果及溶解性的觀點(diǎn)來(lái)看,，推薦為％至5重量％，更推薦為％至2重量％,。另外,，蝕刻液也可含有亞硫酸及/或其鹽,。亞硫酸及其鹽具有作為還原劑的效果，可提高鈦的蝕刻速度,。亞硫酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制，從還原性及臭氣的觀點(diǎn)來(lái)看,，推薦為％至％,，更推薦為％至％。蝕刻液中除了上述的成分以外,，也能以不妨礙本發(fā)明效果的程度添加其他成分,。作為其他成分,，例如可舉出表面活性劑、成分穩(wěn)...

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示：鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品,，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品，添加劑,，輔助化學(xué)品，對(duì)于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果,，在長(zhǎng)效性的表現(xiàn)上更是無(wú)話可說(shuō).在化學(xué)特性上，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,，本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解，故無(wú)須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來(lái)調(diào)整蝕刻速率,，所以本化學(xué)品對(duì)于初次使用者來(lái)說(shuō)，是簡(jiǎn)單容易上手,。蝕刻液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好,？綿陽(yáng)銅鈦蝕刻液蝕刻液費(fèi)用 所述有機(jī)硫化合物具有作為還原劑及絡(luò)合劑(chelate)...

也很難保證拖車在地磅頂部不移動(dòng),。在地磅的頂部平臺(tái)中設(shè)置有兩條卡塊40，卡塊與平臺(tái)之間形成一插槽,，在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu),，壓緊塊位于插槽中，氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連,。拖車的邊緣沿插槽插入后,，氣缸帶動(dòng)壓緊塊下行將拖車緊緊壓在地磅的頂部,。實(shí)施例二本實(shí)施例基于實(shí)施例一,。如圖2所示，在拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在儲(chǔ)存罐外部的護(hù)欄70,，以防止其它物品碰撞儲(chǔ)存罐,。實(shí)施例三本實(shí)施例基于實(shí)施例一。如圖3所示,，在拖車的頂部設(shè)置有一集液盒,，儲(chǔ)存罐安裝在集液盒80中，過(guò)濾器的出液管及灌裝頭的快速接頭從儲(chǔ)存罐中拔出時(shí)滴落的鋁蝕刻液,，由集液盒進(jìn)行收集,。實(shí)施例四本實(shí)施例基于實(shí)施例一。...

伸縮桿12下端固定安裝有圓環(huán)塊13,，圓環(huán)塊13與噴頭10之間固定連接有連接桿14,，分隔板2與承載板3相互垂直設(shè)置，電解池4內(nèi)部底端的傾斜角度設(shè)計(jì)為5°,，進(jìn)液管8的形狀設(shè)計(jì)為l型,，且進(jìn)液管8貫穿分隔板2設(shè)置在進(jìn)液漏斗6與伸縮管9之間，圓環(huán)塊13通過(guò)伸縮桿12活動(dòng)安裝在噴頭10上方,，且噴頭10通過(guò)伸縮管9活動(dòng)安裝在電解池4上方,，通過(guò)設(shè)置有伸縮管9與伸縮桿12，能夠在蝕刻液通過(guò)進(jìn)液管8流入到電解池4中時(shí),，啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),，從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),，進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,，具有保護(hù)...

為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖,，以及其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖，在本實(shí)用新型其二較佳實(shí)施例中,，開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,，且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離，例如：圖4中所示的w1,，其中w1大于圖3的w或圖5的w2,，其中w2大于w，而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm,，以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,，若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí)，則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,，但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,，以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力,。此外,，請(qǐng)參閱圖6與圖7所示...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差,，連接安裝步驟繁瑣的問(wèn)題,。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,，包括裝置主體,、支撐腿、電源線和單片機(jī),，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿,，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器,，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī),，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐,，所述磷酸儲(chǔ)罐的底部固定連接有攪拌倉(cāng),，所述攪拌倉(cāng)的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī)，所述攪...

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100,。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示：鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品,，添加劑,，輔助化學(xué)品,，對(duì)于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果，在長(zhǎng)效性的表現(xiàn)上更是無(wú)話可說(shuō).在化學(xué)特性上,，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,，本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解，故無(wú)須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來(lái)調(diào)整蝕刻速率,，所以本化學(xué)品對(duì)于初次使用者來(lái)說(shuō),，是簡(jiǎn)單容易上手。如何挑選一款適合公司的蝕刻液,？廣州哪家蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式 并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔1...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過(guò)氧化氫系銅刻蝕液,。過(guò)氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過(guò)硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,，產(chǎn)物親和,、友好、環(huán)境污染少,，刻蝕效率高且使用壽命較長(zhǎng)的特點(diǎn),。大部分過(guò)氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過(guò)氧化氫組分、參與溶解的無(wú)機(jī)酸/有機(jī)酸組分,，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分,。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過(guò)氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過(guò)程中需要保證生產(chǎn)安全,。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅,、堿性氯化銅、氯化鐵,、過(guò)硫酸銨,、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液,。酸性氯化銅,，工藝體系，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系,、氯化銅+氯酸鈉體系,、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產(chǎn)過(guò)程中通過(guò)補(bǔ)加鹽酸+空氣,、鹽酸加氯酸鈉,、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來(lái)實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。ITO蝕刻液由氟化銨,、草酸,、硫酸鈉,、氫氟酸、硫酸,、硫酸銨,、甘油、水組成,。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導(dǎo)光性能的材料合成的,。蘇州BOE蝕刻液的生產(chǎn)廠商。無(wú)錫哪家蝕刻液蝕刻液商家 且過(guò)濾部件能將內(nèi)部的過(guò)濾板進(jìn)行拆卸更換,，有效的提高...

本實(shí)用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域,，特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術(shù)：線路板生產(chǎn)工業(yè)中,，會(huì)對(duì)已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進(jìn)行回收利用,，在回收過(guò)程中，廢液在加熱器中通過(guò)蒸汽進(jìn)行換熱,，換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進(jìn)入分離器,，會(huì)在分離器中發(fā)生閃蒸，閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,，攜帶有大小不等的液滴,，現(xiàn)有技術(shù)因缺乏有效的分離氣液的手段，含有銅的液體隨著蒸汽被排走,，導(dǎo)致了產(chǎn)品發(fā)生損失,。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：基于此，有必要針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)氣液分離率低的問(wèn)題,，提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置，包括分離器及加熱器,，所述分離器設(shè)有液體入口,、蒸汽出口及濾液出口，所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生...

操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,，海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收,，避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時(shí)候，會(huì)因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況,，有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進(jìn)行,；然后，通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件進(jìn)行連接,，連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè),，連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉(cāng)23的底部，連接構(gòu)件11與攪拌倉(cāng)23固定連接,，連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,，且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作，在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,，再通過(guò)連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接，通過(guò)...