本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,,所以需要進行回收處理,,目前通用的做法是,,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,,工藝落后,,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟效益不明顯,,有二次污染污染物排放,,一旦處理不當往外排放,,勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理,,不能對蝕刻液進行循環(huán)電解,,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會對電解池造成沖擊,,進而影響電解池的使用壽命,,并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境,也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理,,...
12,、伸縮桿;13,、圓環(huán)塊,;14、連接桿,;15,、回流管;16,、增壓泵,;17、一號排液管,;18,、一號電磁閥,;19,、抽氣泵;20,、排氣管,;21、集氣箱,;22,、二號排液管,;23,、二號電磁閥,;24,、傾斜板,;25,、活動板,;26、蓄水箱,;27,、進水管;28,、抽水管;29,、三號電磁閥,;30、控制面板,。具體實施方式下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,,顯然,,所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例,?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,,都屬于本發(fā)明保護的范圍,。請參閱圖1-5,本發(fā)明提供一種技術(shù)方...
如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter,,mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中宣泄孔具有一***壁面,以及一第二壁面,,且第二擋板具有一下表面,當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,,***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,宣泄孔的上孔徑小于下孔徑,。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),,其中...
技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差,,連接安裝步驟繁瑣的問題,。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,,包括裝置主體,、支撐腿、電源線和單片機,,所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿,,所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線,所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器,,所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機,,所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲罐,所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲罐,,所述磷酸儲罐的底部固定連接有攪拌倉,,所述攪拌倉的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機,所述攪...
所述液位計連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器,。在其中一個實施例中,,所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡。在其中一個實施例中,,所述液位計安裝于所述分離器的外表面,。在其中一個實施例中,所述液位開關(guān)為控制閥,,設(shè)置于所述濾液出口處,。在其中一個實施例中,所述加熱器為盤管式加熱器,。在其中一個實施例中,,所述分離器底部為錐體形狀。上述,,利用加熱器對含銅蝕刻液進行加熱,,使其達到閃蒸要求的溫度,將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器,經(jīng)過減壓閥及真空泵減壓,,含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,,產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,,通過除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出,,減小產(chǎn)品損失。附圖說明圖1是本實施例...
使硝酸鉀儲罐21和其它儲罐的內(nèi)部形成一個密閉的空間,,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進入儲罐內(nèi),,有效的提高了裝置使用的密封性;緊接著,,將磷酸與醋酸在個攪拌倉23中充分攪拌混合均勻,,然后在第二個攪拌倉23中與硝酸充分攪拌混合均勻后,再進入配料罐中混合,,將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三個攪拌倉23混合后再進入第四個攪拌倉23中,,與氯化鉀、硝酸鉀,、去離子水一起在第四個攪拌倉23中混合均勻,,然后過濾后封裝,先檢查過濾板26進行更換或安裝,,過濾部件9的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板26,,常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合,其分散混合性能差,,蝕刻液雜質(zhì)含量多,,過濾板26能將蝕刻...
更推薦滿足。參照圖4,,在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于,,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于,,能夠使氧化物膜損傷不良**少,。因此,在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上,,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化,。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下,上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力,,由此,,即使沒有消耗費用和時間的實際的實驗過程,也能夠選擇具有目標防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑,。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護對...
裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐21,,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9,,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉8,,收集倉8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7,過濾部件9的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋24,,過濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸28,,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,,硝酸鉀儲罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,,在將制備蝕刻液儲罐加入...
對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,,顯然,,所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,,基于本實用新型中的實施例,,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍,。實施例一,,請參閱圖1-4,本實用新型提供技術(shù)方案:高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,,包括裝置主體1,、支撐腿2、電源線3和單片機4,,裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2,,裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3,裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5,,裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機4,,裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲罐14,裝...
內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部,,工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進行實時查看,,從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實時性。推薦的,,鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9,,在進行制備時需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進行均勻調(diào)和,由于熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),,濺出容易傷害工作人員,,通過設(shè)置熱水流入漏斗9,工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi),從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度,,很好的起到了保護作用,。推薦的,裝置底座5的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架10,,由于制備裝置為一體化裝置,,承載設(shè)備較多,質(zhì)量較重,,對底座會產(chǎn)生較大的壓力,,通過設(shè)置加固支架...
裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲罐21,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉8,,收集倉8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7,,過濾部件9的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋24,,過濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸28,,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29,。推薦的,,硝酸鉀儲罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,,在將制備蝕刻液儲罐加入...
ITO蝕刻液的分類:已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型:酸性氯化銅,、堿性氯化銅、氯化鐵,、過硫酸銨、硫酸/鉻酸,、硫酸/雙氧水蝕刻液,。酸性氯化銅,工藝體系,,根據(jù)添加不同的氧化劑又可細分為氯化銅+空氣體系,、氯化銅+氯酸鈉體系,、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝,,在生產(chǎn)過程中通過補加鹽酸+空氣,、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來實現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn),。ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸,、硫酸,、硫酸銨、甘油,、水組成,。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導(dǎo)光性能的材料合成的。蝕刻液的技術(shù)指標哪家比較好?綿陽銅鈦蝕刻液蝕刻液費用 上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于,,選擇上述硅烷...
也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理的問題,。為實現(xiàn)上述目的,,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,,包括裝置主體,,所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,所述承載板上端表面放置有電解池,所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜,,所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進液漏斗,,所述進液漏斗上設(shè)置有過濾網(wǎng),,所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進液管,,所述進液管左端連接有伸縮管,所述伸縮管下端安裝有噴頭,所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸,,所述液壓缸下端安裝有伸縮桿,所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊,所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿,,...
負的值表示厚度減小,。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,,上述氧化物膜推薦包含sio2,上述氮化物膜推薦包含sin,。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化,。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時,,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化,。因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物...
當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動,,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題,;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,,因此,該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...
可用于銀鎳合金,、銀銅合金以及純銀的蝕刻,,蝕刻后板面平整光滑,。劑對油墨沒有影響,可用于花紋蝕刻處理,。三,、使用方法:1、原液使用,,不須加水,,操作溫度可以是25℃-60℃,溫度越高,,速度越快,。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中,。用軟毛刷來回輕輕刷動,,使藥水與銀充分均勻反應(yīng);或者也可以用搖床,,使藥水來回動運,,使板蝕刻速度加快。但不能超聲波,,以免破壞(感光)油墨,。參考數(shù)據(jù):50℃→5分鐘→0.1毫米深度。30℃→20分鐘→0.1毫米深度,。3,、水洗后做后續(xù)處理。蝕刻液的配方是什么,?安徽哪家蝕刻液蝕刻液批量定制 技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,,以解決上述背景技術(shù)中提...
負的值表示厚度減小,。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,上述氧化物膜推薦包含sio2,,上述氮化物膜推薦包含sin,。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化,。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時,能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照圖2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照圖3)的發(fā)生**少化,。因副反應(yīng)氧化物的殘留時間變長而氮化物...
制備裝置主體1的內(nèi)部中間部位活動連接有高效攪拌裝置2,,制備裝置主體1的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板4,制備裝置主體1的底端固定連接有裝置底座5,,裝置底座5的內(nèi)部底部固定連接有成品罐6,,裝置底座5的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐7,裝置底座5的頂端另一側(cè)固定連接有硝酸裝罐8,,高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部中間部位活動連接有旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,,高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部兩側(cè)活動連接有震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14的頂端固定連接有運轉(zhuǎn)電機組13,,運轉(zhuǎn)電機組13的頂端電性連接有控制面板15,,高效攪拌裝置2的內(nèi)部中間部位固定連接有致密防腐桿16,致密防腐桿16的內(nèi)部內(nèi)側(cè)貫穿連接有攪動孔17,,鹽酸裝罐7的內(nèi)...
推薦的,,所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜。推薦的,,所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,,內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件,震蕩彈簧件頂端的運轉(zhuǎn)電機組,,運轉(zhuǎn)電機組頂端的控制面板,,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動孔共同組合而成。推薦的,,所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口,,嵌入引流口一端的負壓引流器,負壓引流器一端的注入量控制容器,,注入量控制容器內(nèi)部內(nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成,。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本種實用新型的有益效果是:1.通過設(shè)置高效攪拌裝置,,該裝置通過運轉(zhuǎn)電機組驅(qū)動旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤,,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動高效攪...
618光電行業(yè)ITO**蝕刻液,專門針對氧化銦錫(ITO)玻璃導(dǎo)電薄膜鍍層圖線的脫膜蝕刻,它對于高阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)以及低阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)都且有優(yōu)良的蝕刻速度與效果。具有速度快、側(cè)蝕小,、無沉淀,、氣味小、不攻擊抗蝕層,不攻擊基材,操作控制簡便靈活等非常***的優(yōu)點,可采取自動控制系統(tǒng)補加,也可人工補加方式,。更重要的是絲毫不改變產(chǎn)品的導(dǎo)電阻抗電性數(shù)據(jù),。二、產(chǎn)品特點1)速度快市場之一般ITO蝕刻液速度大都在0.5nm/s,而KBX-618AITO蝕刻液蝕刻速度正??刂圃?-10nm/s,速度快(具體設(shè)備情況有所差異)2)氣味小,、無煙霧、對皮膚刺激*目前市場蝕...
因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時會過度耗費時間和費用的問題,。美國公開**第2號公開了在3dnand閃存的制造工序中,,對于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,,不得不需要測試蝕刻液組合物的蝕刻性能,,實際情況是,,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費時間和費用的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻**文獻**文獻1:美國公開**第2號技術(shù)實現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明,,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進行另外的實...
且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進行拆卸更換,,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,,連接構(gòu)件,,連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接,,連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個構(gòu)件進行連接并固定,,且在將兩構(gòu)件進行連接或拆卸的時候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,,有效的提高了裝置連接的實用性,。附圖說明圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實用新型的過濾部件剖視圖,;圖3為本實用新型的連接構(gòu)件剖視圖,;圖4為本實用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中:1,、裝置主體,,2、支撐腿,,3,、電源線,,4、單片機,,5,、控制器,6,、防滑紋,,7、密封閥門(z45x-16...
鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100,。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計的化學(xué)品,,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品,添加劑,,輔助化學(xué)品,,對于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果,在長效性的表現(xiàn)上更是無話可說.在化學(xué)特性上,,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,,本化學(xué)品設(shè)計上為酸性配方且完全可被水溶解,故無須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來調(diào)整蝕刻速率,,所以本化學(xué)品對于初次使用者來說,,是簡單容易上手。質(zhì)量好的做蝕刻液的公司,。合肥銅蝕刻液蝕刻液推薦貨源 通過滑動蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進行滑...
以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風刀裝置40的該***風刀41下端部的方向移動,。該風刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風刀41,,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風刀42,,其中該***風刀41與該第二風刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進方向,,以使該基板20上該藥液51減少,,其中該氣體43遠離該***風刀41與該第二風刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間,。此外,,請一并參閱圖8與圖9所示,為本實用新型蝕...
所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13,、除霧組件3及除沫組件4,所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進行除沫,。含銅蝕刻液在加熱器11中進行加熱,達到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,,通過減壓閥12減壓,,真空泵13對分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),,含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,,大液滴中含有銅,,通過除霧組件3和除沫組件4對蒸汽進行分離過濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,,減少產(chǎn)品損失,。在一個實施例中,如圖1所示,,所述除霧組件3為設(shè)有多個平行且曲折的通道的折流...
內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部,,工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進行實時查看,從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實時性,。推薦的,,鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9,在進行制備時需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進行均勻調(diào)和,,由于熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),,濺出容易傷害工作人員,,通過設(shè)置熱水流入漏斗9,,工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi),從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度,,很好的起到了保護作用,。推薦的,裝置底座5的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架10,,由于制備裝置為一體化裝置,,承載設(shè)備較多,質(zhì)量較重,,對底座會產(chǎn)生較大的壓力,,通過設(shè)置加固支架...
銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學(xué)品產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于平板顯示,、LED制造及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,。隨著新技術(shù)的不斷進步,對該蝕刻液也有了更高的要求,。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟,、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進行了無氟,無硝酸,,低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā),,并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝。產(chǎn)品特點:1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm,。2.末期銅蝕刻液工藝溫度(32)下可穩(wěn)定72H,,常溫可穩(wěn)定120H;無暴沸現(xiàn)象,。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好,,taper符合制程要求。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機種,。蝕刻液的價格哪家比較優(yōu)惠,?...
所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12,所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13,、除霧組件3及除沫組件4,,所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進行除沫,。含銅蝕刻液在加熱器11中進行加熱,,達到閃蒸要求的溫度,輸送至分離器,,通過減壓閥12減壓,,真空泵13對分離器內(nèi)抽氣,使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài),,含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,,閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,,大液滴中含有銅,,通過除霧組件3和除沫組件4對蒸汽進行分離過濾,也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出,,減少產(chǎn)品損失,。在一個實施例中,如圖1所示,,所述除霧組件3為設(shè)有多個平行且曲折的通道的折流...
當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,,該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復(fù)數(shù)個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,,因此,,該復(fù)數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,,即可因毛細現(xiàn)象的作用,,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...
過濾器的出液管自動上行離開儲存罐,將裝滿的儲存罐從鋁蝕刻液生產(chǎn)車間移動至自動灌裝車間中,,將灌裝頭的快速接頭插入儲存罐的出液口中便可將儲存罐內(nèi)的鋁蝕刻液分裝,。本實用新型除上述技術(shù)方案外,還包括以下技術(shù)特征:進一步的是,,所述地磅的頂部平臺中設(shè)置有兩條卡塊,,所述卡塊與平臺之間形成一插槽;所述氣動夾緊機構(gòu)包括氣缸和壓緊塊,,所述壓緊塊位于所述插槽中,,所述氣缸的伸縮桿與所述壓緊塊固連。進一步的是,,所述拖車的頂部設(shè)置有一圈圍設(shè)在所述儲存罐外部的護欄,。進一步的是,所述拖車的頂部設(shè)置有一集液盒,,所述儲存罐安裝在所述集液盒中,。進一步的是,所述拖車的頂部于所述儲存罐的旁側(cè)設(shè)置有集液腔室,。與現(xiàn)有技術(shù)相比,,本實...