針對碳化硅（SiC）功率模塊的柵極刻蝕難題,，Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)實現(xiàn)了 20nm 的邊緣粗糙度控制，較傳統(tǒng)光刻膠工藝提升 5 倍。某新能源汽車芯片廠商利用該設(shè)備，將 SiC MOSFET 的導通電阻降低 15%,，開關(guān)損耗減少 20%，推動車載逆變器效率突破 99%,。其靈活的圖案編輯功能支持快速驗證新型柵極結(jié)構(gòu),，使器件研發(fā)周期從 12 周壓縮至 4 周，助力我國在第三代半導體領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)彎道超車,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng),。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。德國工藝：精密制造基因,，10 年以上使用壽命，維護成本低,，設(shè)備殘值率達 60%,。江蘇POLOSBEAM光刻機MAX層厚可達到10微米

在航空航天科研中，某科研團隊致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器,。其中,，制造輕量化且高性能的微機械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù),，助力團隊制造出尺寸precise,、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機翼骨架等微機械結(jié)構(gòu),。例如,，利用該光刻機制造的微型齒輪，齒距精度達到納米級別,，極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性,。基于此,，科研團隊成功試飛了一款新型微型飛行器,，其續(xù)航時間和飛行靈活性遠超同類產(chǎn)品，為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅實基礎(chǔ)。德國POLOS光刻機無掩模激光直寫技術(shù)：無需物理掩膜,，軟件直接輸入任意圖案,，降低成本與時間。

在構(gòu)建肝臟芯片的血管化網(wǎng)絡(luò)時,，某生物工程團隊使用 Polos 光刻機實現(xiàn)了跨尺度結(jié)構(gòu)制備,。其無掩模技術(shù)在 200μm 的主血管與 5μm 的blood capillary間precise銜接，血管內(nèi)皮細胞貼壁率達 95%,，較傳統(tǒng)光刻提升 30%,。通過輸入 CT 掃描的真實肝臟血管數(shù)據(jù)，芯片成功模擬門靜脈與肝竇的血流梯度,，使肝細胞功能維持時間從 7 天延長至 21 天,。該技術(shù)為藥物肝毒性測試提供了接近體內(nèi)環(huán)境的模型，某制藥公司使用后將候選藥物篩選周期縮短 40%,，相關(guān)成果登上《Lab on a Chip》封面,。

微流體芯片制造的core工具！Polos光刻機可加工80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極,，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā),。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe的2PP工藝），用戶可擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印,，為微型機器人及光學超材料提供多維度解決方案37,。其與Lab14集團的協(xié)同合作，進一步推動工業(yè)級光學封裝技術(shù)創(chuàng)新3,。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室,，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域,，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。用戶案例broad：全球超500家科研機構(gòu)采用，覆蓋高校,、研究所與企業(yè)實驗室,。

德國 Polos 光刻機系列以其緊湊的設(shè)計，在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對于研究實驗室,，尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機構(gòu)來說,，設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機占用空間小的特點,，使其能夠輕松融入各類實驗室環(huán)境,。? 盡管體積小巧，但它的性能卻毫不遜色,。無掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,，低成本的優(yōu)勢降低了科研投入門檻。在小型實驗室中,，科研人員使用 Polos 光刻機,，在微流體、電子學等領(lǐng)域開展研究,，成功取得多項成果,。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā)，Polos 光刻機證明了小空間也能蘊藏大能量,，為科研創(chuàng)新提供有力支持,。實時觀測系統(tǒng)：120 FPS高清攝像頭搭配20x尼康物鏡，實現(xiàn)加工過程動態(tài)監(jiān)控,。德國POLOS光刻機

POLOS μ：超緊湊設(shè)計,，納米級精度專攻微流控與細胞芯片。江蘇POLOSBEAM光刻機MAX層厚可達到10微米

細胞培養(yǎng)芯片需根據(jù)不同細胞類型設(shè)計表面微結(jié)構(gòu),，傳統(tǒng)光刻依賴掩模庫,，難以滿足個性化需求。Polos 光刻機支持 STL 模型直接導入,，某干細胞研究所在 24 小時內(nèi)完成了神經(jīng)干細胞三維培養(yǎng)支架的定制加工,。其制造的微柱陣列間距可精確控制在 5-50μm，適配不同分化階段的細胞黏附需求,。實驗顯示,，使用該支架的神經(jīng)細胞軸突生長速度提升 30%，為神經(jīng)再生機制研究提供了高效工具,，相關(guān)技術(shù)已授權(quán)給生物芯片企業(yè)實現(xiàn)量產(chǎn),。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案,。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光,。該系統(tǒng)占用空間小,，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體,、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域,。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會,。江蘇POLOSBEAM光刻機MAX層厚可達到10微米