Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域,，諸如力學超材料，微納機器人等,。湖南2PPNanoscribe技術

3D微納加工技術應用于材料工程領域,。材料屬性可以通過成分和幾何設計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,，可以實現(xiàn)具有特定光子,，機械，生物或化學特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結構,。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,，在科學和工業(yè)項目中備受青睞,。這種可快速打印的微結構在科研,、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景,。也就是說,，在納米級、微米級以及中尺度結構上,，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版,。

浙江進口NanoscribeQX增材制造技術存在多方面的優(yōu)勢，如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司,。

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格,、木堆型結構、自由設計的圖案,、順滑的輪廓、銳利的邊緣,、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構,。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇,。因此,，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室,。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法,。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)Quantum X shape具有下列優(yōu)異性能：首先,，在所有空間方向上低至 100 納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達 50 毫米的目標結構，適用于中尺度打印,。高速3D微納加工系統(tǒng)Quantum X shape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作,。這種高質(zhì)量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺,。Quantum X  shape具有先進的激光焦點軌跡控制,，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以 1 MHz 調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率

Nanoscribe技術在微納加工,、生物醫(yī)學和光學領域有廣泛應用,。

Quantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力,。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工,。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領域和工業(yè)行業(yè)應用的更多可能性（如生命科學、材料工程,、微流體,、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）  更多有關雙光子灰度光刻的咨詢,，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維,。浙江進口NanoscribeQX

專注于微納米3D打印設備的額研發(fā)和應用。湖南2PPNanoscribe技術

Nanoscribe稱,，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography,，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利,。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器,。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換,，物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement,，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成,，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,，如球面和非球面透鏡。 湖南2PPNanoscribe技術