廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領域,。

LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點,，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,，能確保 LCD 生產過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果,。

半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L,，具有耐腐蝕的特性，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,，比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造,。 負性光刻膠生產原料。福州油性光刻膠工廠

廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品,，主要涵蓋厚板,、負性、正性,、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號,，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標準,，保質期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造,。

負性光刻膠

• SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好，曝光靈敏度高,，光源適應,，重量 100g。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工,、半導體制造等領域,。

正性光刻膠 江西光刻膠耗材正性光刻膠生產原料。

• LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力，重量 100g,。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,，確保 LCD 生產中圖形精確轉移和良好涂布效果。
• 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g,。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求。

吉田半導體 SU-3 負性光刻膠：國產技術賦能 5G 芯片封裝

吉田半導體水性感光膠 JT-1200：水油兼容，鋼片加工精度 ±5μm

政策支持：500億加碼產業(yè)鏈。福州油性光刻膠工廠

吉田半導體突破光刻膠共性難題,，提升行業(yè)生產效率,，通過優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問題,，助力客戶降本增效。
針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴重等問題,，吉田半導體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產品高 8%，密集圖形側壁垂直度達標率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術,，在顯影過程中減少有機溶劑對有機半導體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術突破有效降低客戶生產成本,，推動行業(yè)生產效率提升。福州油性光刻膠工廠

廣東吉田半導體材料有限公司在同行業(yè)領域中,，一直處在一個不斷銳意進取,，不斷制造創(chuàng)新的市場高度，多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產品標準,，在廣東省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的商業(yè)口碑,，成績讓我們喜悅，但不會讓我們止步,，殘酷的市場磨煉了我們堅強不屈的意志,，和諧溫馨的工作環(huán)境，富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,，勇于進取的無限潛力,，吉田半導體供應攜手大家一起走向共同輝煌的未來，回首過去,，我們不會因為取得了一點點成績而沾沾自喜,，相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍，我們更要明確自己的不足,，做好迎接新挑戰(zhàn)的準備,，要不畏困難，激流勇進，以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,，共同走向輝煌回來,！