定義與特性
正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形,。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,其優(yōu)勢(shì)是分辨率高,、圖案邊緣清晰,,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
? 樹脂(成膜劑):
? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),,占比約80%-90%。
? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,,搭配光酸發(fā)生器(PAG),,通過(guò)酸催化反應(yīng)提高感光度和分辨率,。
? 溶劑:溶解樹脂和感光劑,常用丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)或乳酸乙酯,。
? 添加劑:表面活性劑(改善涂布均勻性),、穩(wěn)定劑(防止暗反應(yīng))、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等,。
工作原理
? 曝光前:光敏劑(如DNQ)與樹脂結(jié)合,,形成不溶于堿性顯影液的復(fù)合物。
? 曝光時(shí):
? 傳統(tǒng)PAC體系:DNQ在紫外光(G線436nm,、I線365nm)照射下發(fā)生光分解,,生成羧酸,使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強(qiáng),。
? 化學(xué)增幅型:PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸,,催化樹脂發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng),大幅提高顯影速率(靈敏度提升10倍以上),。
? 顯影后:曝光區(qū)域溶解去除,,未曝光區(qū)域保留,形成正性圖案,。
吉田市場(chǎng)定位與未來(lái)布局,。福建UV納米光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
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產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,,耐印率高,;固含量高,流平性好,,涂布性能優(yōu)良,;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑,、無(wú)白點(diǎn),、無(wú)沙眼、亮度高,;剝膜性好,,網(wǎng)版可再生使用;解像性,、高架橋性好,,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條;感光度高,,曝光時(shí)間短,,曝光寬容度大,,節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時(shí)間,提高工作效率 ,。
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應(yīng)用范圍:適用于塑料、皮革,、標(biāo)牌,、印刷電路板(PCB),、廣告宣傳,、玻璃,、陶瓷,、紡織品等產(chǎn)品的印刷,。例如在塑料表面形成牢固圖案,,滿足皮革制品精細(xì)印刷需求,制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰,,用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
貴州LED光刻膠感光膠吉田半導(dǎo)體強(qiáng)化研發(fā),布局下一代光刻技術(shù),。
定義與特性
負(fù)性光刻膠是一種在曝光后,,未曝光區(qū)域會(huì)溶解于顯影液的光敏材料,,形成與掩膜版(Mask)圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比,,其主要特點(diǎn)是耐蝕刻性強(qiáng),、工藝簡(jiǎn)單、成本低,,但分辨率較低(通?!?μm),主要應(yīng)用于對(duì)精度要求相對(duì)較低,、需要厚膠或高耐腐蝕性的場(chǎng)景,。
化學(xué)組成與工作原理
主要成分
基體樹脂:
? 早期以聚異戊二烯橡膠(天然或合成)為主,目前常用環(huán)化橡膠(Cyclized Rubber)或聚乙烯醇肉桂酸酯,,提供膠膜的機(jī)械強(qiáng)度和耐蝕刻性。
光敏劑:
? 主要為雙疊氮化合物(如雙疊氮芪)或重氮醌類衍生物,,占比約5%-10%,,吸收紫外光后引發(fā)交聯(lián)反應(yīng)。
交聯(lián)劑:
? 如六亞甲基四胺(烏洛托品),,在曝光后與樹脂發(fā)生交聯(lián),,形成不溶性網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),。
溶劑:
? 多為有機(jī)溶劑(如二甲苯,、環(huán)己酮),,溶解樹脂和光敏劑,,涂布后揮發(fā)形成均勻膠膜,。
工作原理
曝光前:光敏劑和交聯(lián)劑均勻分散在樹脂中,,膠膜可溶于顯影液(有機(jī)溶劑)。
曝光時(shí):
? 光敏劑吸收紫外光(G線436nm為主)后產(chǎn)生活性自由基,,引發(fā)交聯(lián)劑與樹脂分子間的共價(jià)鍵交聯(lián),,使曝光區(qū)域形成不溶于顯影液的三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。
顯影后:
? 未曝光區(qū)域的樹脂因未交聯(lián),,被顯影液溶解去除,曝光區(qū)域保留,,形成負(fù)性圖案(與掩膜版相反)。
吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國(guó)產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限
自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,,為國(guó)產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國(guó)產(chǎn)交聯(lián)樹脂,,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%,。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與全自動(dòng)化工藝,,其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,,適用于光學(xué)元件,、傳感器等精密器件,。產(chǎn)品已通過(guò)國(guó)內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗(yàn)證,應(yīng)用于國(guó)產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,,幫助客戶實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化,。
光刻膠的技術(shù)挑戰(zhàn)現(xiàn)在就是需要突破難關(guān)!
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證
公司通過(guò)ISO9001,、ISO14001等認(rèn)證,并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理,,生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級(jí),。其光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)京東方,、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證,,在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%,,成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR,、德國(guó)默克競(jìng)爭(zhēng)的廠商。
全流程可追溯體系
吉田半導(dǎo)體建立了從原材料入庫(kù)到成品出庫(kù)的全流程追溯系統(tǒng),,關(guān)鍵批次數(shù)據(jù)(如樹脂分子量分布、光敏劑純度)實(shí)時(shí)上傳云端,,確保產(chǎn)品一致性和可追溯性,。這一體系使其在車規(guī)級(jí)芯片等對(duì)可靠性要求極高的領(lǐng)域獲得突破,2023年車用光刻膠銷售額同比增長(zhǎng)120%,。
水性感光膠推薦吉田 JT-1200,,精細(xì)網(wǎng)點(diǎn) + 易操作性,!江西進(jìn)口光刻膠
松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn)!福建UV納米光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家
市場(chǎng)拓展
? 短期目標(biāo):2025年前實(shí)現(xiàn)LCD光刻膠國(guó)內(nèi)市占率10%,半導(dǎo)體負(fù)性膠進(jìn)入中芯國(guó)際,、華虹供應(yīng)鏈,,納米壓印膠完成臺(tái)積電驗(yàn)證,。
? 長(zhǎng)期愿景:成為全球的半導(dǎo)體材料方案提供商,2030年芯片光刻膠營(yíng)收占比超40%,,布局EUV光刻膠和第三代半導(dǎo)體材料,。
. 政策與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同
? 受益于廣東省“強(qiáng)芯工程”和東莞市10億元半導(dǎo)體材料基金,獲設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼(30%)和稅收減免,,加速KrF/ArF光刻膠研發(fā),。
? 與松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、華為終端建立聯(lián)合研發(fā)中心,,共同攻關(guān)光刻膠關(guān)鍵技術(shù),,縮短客戶驗(yàn)證周期(目前平均12-18個(gè)月)。
. 挑戰(zhàn)與應(yīng)對(duì)
? 技術(shù)壁壘:ArF/EUV光刻膠仍依賴進(jìn)口,,計(jì)劃2026年建成中試線,,突破分辨率和靈敏度瓶頸(目標(biāo)曝光劑量<10mJ/cm2)。
? 供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn):部分原材料(如樹脂)進(jìn)口占比超60%,,正推進(jìn)“國(guó)產(chǎn)替代計(jì)劃”,,與鼎龍股份、久日新材建立戰(zhàn)略合作為原材料供應(yīng),。
福建UV納米光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家