納米壓印光刻膠

四川激光光刻膠國(guó)產(chǎn)廠家光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,，23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì)!

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,，主要涵蓋厚板,、負(fù)性、正性,、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別,，以滿(mǎn)足不同領(lǐng)域的需求。

厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào),，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),，保質(zhì)期 1 年,。適用于對(duì)精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝，如特定電路板制造。

負(fù)性光刻膠

• SU-3 負(fù)性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對(duì)比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應(yīng),，重量 100g,。常用于對(duì)曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域,。
• 負(fù)性光刻膠 JT-1000：有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,，具有優(yōu)異的分辨率,、良好的對(duì)比度和高曝光靈敏度,，光源適應(yīng)。主要應(yīng)用于對(duì)光刻精度要求高的領(lǐng)域,，如半導(dǎo)體器件制造,。
• 耐腐蝕負(fù)性光刻膠 JT-NF100：重量 1L，具備耐腐蝕特性,。適用于有腐蝕風(fēng)險(xiǎn)的光刻工藝,，如特殊環(huán)境下的半導(dǎo)體加工或電路板制造。

吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,，提升行業(yè)生產(chǎn)效率,，通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝，吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷等共性問(wèn)題,，助力客戶(hù)降本增效。
針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低,、蝕刻損傷嚴(yán)重等問(wèn)題,，吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類(lèi)產(chǎn)品高 8%，密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%,。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),，在顯影過(guò)程中減少有機(jī)溶劑對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體的損傷，使芯片良率提升至 99.8%,。這些技術(shù)突破有效降低客戶(hù)生產(chǎn)成本,，推動(dòng)行業(yè)生產(chǎn)效率提升。松山湖企業(yè)深耕光刻膠領(lǐng)域二十載,，提供全系列半導(dǎo)體材料解決方案,。

吉田半導(dǎo)體實(shí)現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐,。河北油性光刻膠感光膠