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沈陽油性光刻膠價格

來源： 發(fā)布時間：2025-05-02

依托自主研發(fā)與國產供應鏈,，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%,，躋身國內前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體,，實現(xiàn) 100% 國產化替代,。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm,，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-P310 系列,。通過與國內多家大型企業(yè)的深度合作，產品覆蓋智能手機,、電視等顯示終端,，年供貨量超 200 噸。公司建立國產原材料溯源體系,，確保每批次產品穩(wěn)定性,，推動 LCD 面板材料國產化進程。

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國家大基金三期：注冊資本3440億元,，明確將光刻膠列為重點投資領域，計劃投入超500億元支持樹脂,、光引發(fā)劑等原料研發(fā),，相當于前兩期投入總和的3倍。

地方專項政策：湖北省對通過驗證的光刻膠企業(yè)給予設備采購補貼+稅收減免,，武漢太紫微憑借全流程國產化技術獲中芯國際百萬級訂單,；福建省提出2030年化工新材料自給率達90%，光刻膠是重點突破方向。

研發(fā)專項：科技部“雙十計劃”設立20億元經(jīng)費,，要求2025年KrF/ArF光刻膠國產化率突破10%,，并啟動EUV光刻膠預研。
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廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，主要涵蓋厚板,、負性,、正性、納米壓印及光刻膠等類別,，以滿足不同領域的需求,。

厚板光刻膠：JT-3001 型號，具有優(yōu)異的分辨率和感光度,，抗深蝕刻性能良好,，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年,。適用于對精度和抗蝕刻要求高的厚板光刻工藝,，如特定電路板制造。

負性光刻膠

  • SU-3 負性光刻膠：分辨率優(yōu)異,，對比度良好,，曝光靈敏度高，光源適應,，重量 100g,。常用于對曝光精度和光源適應性要求較高的微納加工、半導體制造等領域,。


正性光刻膠

  • LCD 正性光刻膠 YK-200：具有較大曝光,、高分辨率、良好涂布和附著力,，重量 100g,。適用于液晶顯示領域的光刻工藝，確保 LCD 生產中圖形精確轉移和良好涂布效果,。
  • 半導體正性光刻膠 YK-300：具備耐熱耐酸,、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g,。主要用于半導體制造工藝，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

LCD顯示

? 彩色濾光片（CF）：

? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素,，線寬精度±2μm,，透光率<0.1%。

? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素,，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性,。

? 陣列基板（Array）：

? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化,，分辨率≤3μm,。

 OLED顯示（柔性/剛性）

? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結構，線寬精度±1μm,，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）,。

? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)透明導電線路，線寬≤5μm,。

 Mini/Micro LED

? 巨量轉移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列,，良率要求>99.99%。
吉田半導體產品矩陣,。

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后,，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形,。與負性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比,，其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰,，是半導體制造（尤其是制程）的主流選擇,。

化學組成與工作原理

 主要成分

? 樹脂（成膜劑）：

? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ，光敏劑）**的復合體系（PAC體系）,，占比約80%-90%,。

? 化學增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配光酸發(fā)生器（PAG）,，通過酸催化反應提高感光度和分辨率,。

? 溶劑：溶解樹脂和感光劑，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯,。

? 添加劑：表面活性劑（改善涂布均勻性）,、穩(wěn)定劑（防止暗反應）、堿溶解度調節(jié)劑等,。

 工作原理

? 曝光前：光敏劑（如DNQ）與樹脂結合,，形成不溶于堿性顯影液的復合物。

? 曝光時：

? 傳統(tǒng)PAC體系：DNQ在紫外光（G線436nm,、I線365nm）照射下發(fā)生光分解,，生成羧酸，使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強,。

? 化學增幅型：PAG在DUV/EUV光下產生活性酸,，催化樹脂發(fā)生脫保護反應,，大幅提高顯影速率（靈敏度提升10倍以上）。

? 顯影后：曝光區(qū)域溶解去除,，未曝光區(qū)域保留,，形成正性圖案。
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感光膠的工藝和應用,。沈陽油性光刻膠價格

產品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠,、半導體錫膏等,，形成“光刻膠+配套材料”的完整產品線。例如：

? 芯片光刻膠：覆蓋i線,、g線光刻膠,，適用于6英寸、8英寸晶圓制造,。

? 納米壓印光刻膠：用于MEMS,、光學器件等領域，替代傳統(tǒng)光刻工藝,。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導體用KrF光刻膠,，計劃2025年啟動研發(fā)，目標進入中芯國際,、長江存儲等晶圓廠供應鏈,。

質量與生產優(yōu)勢：嚴格品控與自動化生產

 ISO認證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質量體系認證，生產環(huán)境執(zhí)行8S管理,，原材料采用美,、德、日進口高質量材料,，確保產品批次穩(wěn)定性,。
質量指標：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%,。

 自動化生產能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產線,，年產能達2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付,。

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標簽： 錫片 光刻膠