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重慶水性光刻膠廠家

來源: 發(fā)布時間:2025-06-19

光刻膠系列

厚板光刻膠 JT - 3001,具備優(yōu)異分辨率,、感光度和抗深蝕刻性能,符合歐盟 ROHS 標準,,保質(zhì)期 1 年,;

水油光刻膠 SR - 3308,容量 5L,;SU - 3 負性光刻膠,,分辨率優(yōu)異,對比度良好,,曝光靈敏度高,,光源適應(yīng),重量 100g,;

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000,,有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格,分辨率高,,準確性和穩(wěn)定性好,;

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠,耐強酸強堿,,耐高溫達 250°C,,長期可靠性高,粘接強度高,,重量 100g,;

LCD 正性光刻膠 YK - 200,具有較大曝光,、高分辨率,、良好涂布和附著力,重量 100g,;

半導(dǎo)體正性光刻膠 YK - 300,,具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,,重量 100g;

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100,,重量 1L,。 光刻膠的顯示面板領(lǐng)域。重慶水性光刻膠廠家

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產(chǎn)品優(yōu)勢:多元化布局與專業(yè)化延伸

 全品類覆蓋
吉田產(chǎn)品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠、半導(dǎo)體錫膏等,形成“光刻膠+配套材料”的完整產(chǎn)品線,。例如:

? 芯片光刻膠:覆蓋i線,、g線光刻膠,適用于6英寸,、8英寸晶圓制造,。

? 納米壓印光刻膠:用于MEMS、光學(xué)器件等領(lǐng)域,,替代傳統(tǒng)光刻工藝,。

 專業(yè)化延伸
公司布局半導(dǎo)體用KrF光刻膠,計劃2025年啟動研發(fā),,目標進入中芯國際,、長江存儲等晶圓廠供應(yīng)鏈。

質(zhì)量與生產(chǎn)優(yōu)勢:嚴格品控與自動化生產(chǎn)

 ISO認證與全流程管控
公司通過ISO9001:2008質(zhì)量體系認證,,生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理,,原材料采用美、德,、日進口高質(zhì)量材料,,確保產(chǎn)品批次穩(wěn)定性。
質(zhì)量指標:光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb,,良率超99%,。

 自動化生產(chǎn)能力
擁有行業(yè)前列的全自動化生產(chǎn)線,年產(chǎn)能達2000噸(光刻膠及配套材料),,支持大規(guī)模訂單交付,。

廣東網(wǎng)版光刻膠吉田半導(dǎo)體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。

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關(guān)鍵工藝流程

 涂布:

? 在晶圓/基板表面旋涂光刻膠,,厚度控制在0.1-5μm(依制程精度調(diào)整),,需均勻無氣泡(旋涂轉(zhuǎn)速500-5000rpm)。

 前烘(Soft Bake):

? 加熱(80-120℃)去除溶劑,,固化膠膜,,增強附著力(避免顯影時邊緣剝離)。

 曝光:

? 光源匹配:

? G/I線膠:汞燈(適用于≥1μm線寬,,如PCB,、LCD)。

? DUV膠(248nm/193nm):KrF/ArF準分子激光(用于28nm-14nm制程,,如存儲芯片),。

? EUV膠(13.5nm):極紫外光源(用于7nm以下制程,需控制納米級缺陷),。

? 曝光能量:需精確控制(如ArF膠約50mJ/cm2),,避免過曝或欠曝導(dǎo)致圖案失真,。

 顯影:

? 采用堿性溶液(如0.262N四甲基氫氧化銨,TMAH),,曝光區(qū)域膠膜溶解,,未曝光區(qū)域保留,形成三維立體圖案,。

 后烘(Post-Exposure Bake, PEB):

? 化學(xué)增幅型膠需此步驟,,通過加熱(90-130℃)激發(fā)光酸催化反應(yīng),提高分辨率和耐蝕刻性,。

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),,注冊資本 2000 萬元,。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè),公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā),、生產(chǎn)與銷售,,產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠,、納米壓印光刻膠,、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域,。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率,、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱,廣泛應(yīng)用于芯片制造,、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn),。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗積累,構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,,擁有全自動化生產(chǎn)設(shè)備及多項技術(shù),。原材料均選用美國、德國,、日本進口的材料,,并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認證,生產(chǎn)流程嚴格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標準,,確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性,。目前,吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作,,產(chǎn)品遠銷全球市場,,致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
聚焦封裝需求,,吉田公司提供從光刻膠到配套材料的一站式服務(wù),。

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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場,,通過嚴格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認證,,更以進口原材料和精細化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),,例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求,,適用于電子產(chǎn)品制造,。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,與富士康,、聯(lián)想等企業(yè)保持長期合作,,并在全國重點區(qū)域設(shè)立辦事處,提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù),。

作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),,吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競爭力。公司投入大量資源開發(fā)新型光刻膠及焊接材料,,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,,滿足精密電子組裝的需求。同時,,依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢,,公司強化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短交付周期,,為客戶提供高效解決方案,。未來,吉田半導(dǎo)體將持續(xù)深化技術(shù)創(chuàng)新與全球合作,,助力中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺階,。
無鹵無鉛錫育廠家吉田,RoHS 認證,,為新能源領(lǐng)域提供服務(wù)!惠州紫外光刻膠

半導(dǎo)體材料選吉田,,歐盟認證,支持定制化解決方案,!重慶水性光刻膠廠家

 差異化競爭策略
高級市場(如ArF浸沒式光刻膠),,吉田半導(dǎo)體采取跟隨式創(chuàng)新,通過優(yōu)化現(xiàn)有配方(如提高酸擴散抑制效率)逐步縮小與國際巨頭的差距,;在中低端市場(如PCB光刻膠),,則憑借性價比優(yōu)勢(價格較進口產(chǎn)品低20%-30%)快速搶占份額,2023年P(guān)CB光刻膠市占率突破10%,。

 前沿技術(shù)儲備
公司設(shè)立納米材料研發(fā)中心,,重點攻關(guān)分子玻璃光刻膠和金屬有機框架(MOF)光刻膠,目標在5年內(nèi)實現(xiàn)EUV光刻膠的實驗室級突破,。此外,,其納米壓印光刻膠已應(yīng)用于3D NAND存儲芯片的孔陣列加工,,分辨率達10nm,為國產(chǎn)存儲廠商提供了替代方案,。
重慶水性光刻膠廠家

標簽: 光刻膠 錫膏 錫片