關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造:
? 在晶圓表面涂覆光刻膠,,通過(guò)掩膜曝光、顯影,,刻蝕出晶體管,、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)(如EUV光刻膠用于7nm以下制程)。
印刷電路板(PCB):
? 保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,,制作線路和焊盤,。
顯示面板(LCD/OLED):
? 用于制備彩色濾光片、電極圖案等,。
微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS):
? 加工微結(jié)構(gòu)(如傳感器,、執(zhí)行器),。
工作原理(以正性膠為例)
1. 涂膠:在基材(如硅片)表面均勻旋涂光刻膠,烘干形成薄膜,。
2. 曝光:通過(guò)掩膜版,,用特定波長(zhǎng)光線照射,曝光區(qū)域的光敏劑分解,,使樹(shù)脂變得易溶于顯影液,。
3. 顯影:用顯影液溶解曝光區(qū)域,留下未曝光的光刻膠圖案,,作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層,。
4. 后續(xù)工藝:刻蝕基材(保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域),或去除光刻膠(剝離工藝),。
吉田半導(dǎo)體光刻膠,,45nm 制程驗(yàn)證,國(guó)產(chǎn)替代方案,!甘肅阻焊光刻膠多少錢
吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專精特新" 企業(yè),,行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn),以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為,,吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號(hào),,樹(shù)立行業(yè)。
憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn),,吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專精特新企業(yè)"" ",,承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光刻膠用樹(shù)脂技術(shù)規(guī)范》等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),,推動(dòng)國(guó)產(chǎn)材料標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程,。未來(lái),吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)以" 中國(guó)半導(dǎo)體材料方案提供商 "為愿景,,深化技術(shù)研發(fā)與市場(chǎng)拓展,,為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展貢獻(xiàn)" 中國(guó)力量 "。成都UV納米光刻膠供應(yīng)商光刻膠半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用,。
吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠:國(guó)產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝
自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工,,成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對(duì) 5G 芯片封裝需求,,吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠,,分辨率達(dá) 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性,,已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國(guó)產(chǎn)原材料與工藝,,不采用國(guó)外材料,,成本較進(jìn)口產(chǎn)品降低 40%,,幫助客戶提升封裝良率至 98.5%,為國(guó)產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐,。
LCD顯示
? 彩色濾光片(CF):
? 黑色矩陣(BM)光刻膠:隔離像素,線寬精度±2μm,,透光率<0.1%,。
? RGB色阻光刻膠:形成紅/綠/藍(lán)像素,需高色純度(NTSC≥95%)和耐光性,。
? 陣列基板(Array):
? 柵極絕緣層光刻膠:用于TFT-LCD的柵極圖案化,,分辨率≤3μm。
OLED顯示(柔性/剛性)
? 像素定義層(PDL)光刻膠:在基板上形成有機(jī)發(fā)光材料的 confinement 結(jié)構(gòu),,線寬精度±1μm,,需耐溶劑侵蝕(適應(yīng)蒸鍍工藝)。
? 觸控電極(如ITO/PET):通過(guò)光刻膠圖形化實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電線路,,線寬≤5μm,。
Mini/Micro LED
? 巨量轉(zhuǎn)移前的芯片制備:使用高分辨率光刻膠(分辨率≤5μm)定義微米級(jí)LED陣列,良率要求>99.99%,。
光刻膠廠家推薦吉田半導(dǎo)體,,23 年研發(fā)經(jīng)驗(yàn),全自動(dòng)化生產(chǎn)保障品質(zhì),!
綠色制造與循環(huán)經(jīng)濟(jì)
公司采用水性光刻膠技術(shù),,溶劑揮發(fā)量較傳統(tǒng)產(chǎn)品降低60%,符合歐盟REACH法規(guī)和國(guó)內(nèi)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn),。同時(shí),,其光刻膠廢液回收項(xiàng)目已投產(chǎn),通過(guò)膜分離+精餾技術(shù)實(shí)現(xiàn)90%溶劑循環(huán)利用,,年減排VOCs(揮發(fā)性有機(jī)物)超100噸,。
低碳供應(yīng)鏈管理
吉田半導(dǎo)體與上游供應(yīng)商合作開(kāi)發(fā)生物基樹(shù)脂,部分產(chǎn)品采用可再生原料(如植物基丙烯酸酯),,碳排放強(qiáng)度較傳統(tǒng)工藝降低30%,。這一舉措使其在光伏電池和新能源汽車領(lǐng)域獲得客戶青睞,相關(guān)訂單占比從2022年的15%提升至2023年的25%,。
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì)發(fā)展,,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同創(chuàng)新。合肥阻焊光刻膠
松山湖半導(dǎo)體材料廠家吉田,,全系列產(chǎn)品支持小批量試產(chǎn),!甘肅阻焊光刻膠多少錢
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全品類覆蓋
吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠,、LCD 光刻膠,、厚膜光刻膠及水性光刻膠等,,覆蓋芯片制造、顯示面板,、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求,,技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。
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關(guān)鍵技術(shù)突破
納米壓印技術(shù):JT-2000 納米壓印光刻膠耐高溫達(dá) 250℃,,支持納米級(jí)精度圖案復(fù)制,,適用于第三代半導(dǎo)體(GaN/SiC)及 Mini LED 等新興領(lǐng)域,技術(shù)指標(biāo)接近國(guó)際先進(jìn)水平,。
水性環(huán)保配方:JT-1200 水性感光膠以水為溶劑替代傳統(tǒng)有機(jī)溶劑,,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 標(biāo)準(zhǔn),,環(huán)保性能優(yōu)于同類產(chǎn)品,。
厚膜工藝能力:JT-3001 厚板光刻膠膜厚可控(達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列及 MEMS 器件的制造需求,。
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