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該文主要研究了以半導體鍺和貴金屬金兩種材料為對象，實現(xiàn)納米級薄膜厚度準確測量的可行性,，主要涉及三種方法,，分別是白光干涉法、表面等離子體共振法和外差干涉法,。由于不同材料薄膜的特性不同,，所適用的測量方法也不同。對于折射率高,，在通信波段（1550nm附近）不透明的半導體鍺膜,，選擇采用白光干涉的測量方法；而對于厚度更薄的金膜,，其折射率為復數(shù),，且能夠激發(fā)表面等離子體效應(yīng)，因此采用基于表面等離子體共振的測量方法,。為了進一步提高測量精度,，論文還研究了外差干涉測量法，通過引入高精度的相位解調(diào)手段并檢測P光和S光之間的相位差來提高厚度測量的精度,。白光干涉膜厚儀的應(yīng)用非常廣,，特別是在半導體,、光學、電子和化學等領(lǐng)域...

目前,，應(yīng)用的顯微干涉方式主要有Mirau顯微干涉和Michelson顯微干涉兩張方式,。在Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,，一個是涂覆有高反射膜的平板作為參考鏡,，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡，由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，從而使物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對而言短一些，其倍率一般為10-50倍,，Mirau顯微干涉物鏡參考端使用與測量端相同顯微物鏡,，因此沒有額外的光程差。是常用的方法之一,。高精度的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu),。原裝膜厚儀經(jīng)銷批發(fā)白光干涉的相干原理早在1975年就被提出，并在1976年實現(xiàn)了在光纖通信領(lǐng)域中的應(yīng)用...

白光干涉的相干原理早在1975年就被提出,，并在1976年實現(xiàn)了在光纖通信領(lǐng)域中的應(yīng)用,。1983年，Brian Culshaw的研究小組報道了白光干涉技術(shù)在光纖傳感領(lǐng)域中的應(yīng)用,。隨后在1984年,，報道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統(tǒng)。這項研究成果證明了白光干涉技術(shù)可以用于測量能夠轉(zhuǎn)換成位移的物理參量,。此后的幾年中,，白光干涉技術(shù)應(yīng)用于溫度、壓力等的研究也相繼被報道,。自上世紀90年代以來,，白光干涉技術(shù)得到了快速發(fā)展，提供了更多實現(xiàn)測量的解決方案,。近年來,，由于傳感器設(shè)計和研制的進步，信號處理的新方案提出,，以及傳感器的多路復用等技術(shù)的發(fā)展,，使白光干涉測量技術(shù)的發(fā)展更加迅速?？梢耘浜喜煌能浖M行分...

光鏡和參考板組成,，光源發(fā)出的光經(jīng)過顯微鏡后被分光棱鏡分成兩部分，一束作為參考光入射到參考鏡并反射，另一束作為測量光入射到樣品表面被反射,，兩束反射光反射到分光棱鏡并發(fā)生干涉,。由于實驗中需要調(diào)節(jié)樣品與被測樣品的角度，以便更好進行測量,，5XMichelson型干涉物鏡可以通過其配置的兩個旋鈕進行調(diào)節(jié),，旋鈕能夠在較大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)參考鏡角度，可以調(diào)節(jié)到理想角度,。光纖在測試系統(tǒng)中負責傳光,，將顯微鏡視場干涉信號傳輸?shù)轿⑿凸庾V儀。系統(tǒng)選用光纖為海洋光學公司生產(chǎn)的高級光纖組件,，光纖連接線的內(nèi)層為硅樹脂包裹的單線鋼圈,，外層為諾梅克斯編織物,，以求更好地減輕應(yīng)力并起到有效的保護作用,。該組件末段是易于操作的金屬環(huán)---...

光譜法是一種以光的干涉效應(yīng)為基礎(chǔ)的薄膜厚度測量方法,，分為反射法和透射法兩種類型,。入射光在薄膜-基底-薄膜界面上的反射和透射會引起多光束干涉效應(yīng)，不同特性的薄膜材料的反射率和透過率曲線是不同的,，并且在全光譜范圍內(nèi)與厚度一一對應(yīng),。因此,，可以根據(jù)這種光譜特性來確定薄膜的厚度和光學參數(shù),。光譜法的優(yōu)點是可以同時測量多個參數(shù),，并能有效地排除解的多值性，測量范圍廣,，是一種無損測量技術(shù),。其缺點是對樣品薄膜表面條件的依賴性強,，測量穩(wěn)定性較差,，因此測量精度不高，對于不同材料的薄膜需要使用不同波段的光源等,。目前,，這種方法主要用于有機薄膜的厚度測量。白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫,、...

使用了迭代算法的光譜擬合法，其優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量。其缺點是不夠?qū)嵱?，該方法需要一個較好的薄膜的光學模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù)、多層膜系統(tǒng)),，但是在實際測試過程中,，薄膜的色散和吸收的公式通常不準確,，尤其是對于多層膜體系，建立光學模型非常困難,，無法用公式準確地表示出來,。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效,。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求。Michelson干涉儀的光路長度是影響儀器精度的重要因素,。薄膜干涉膜厚儀招商加盟白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的...

光鏡和參考板組成,，光源發(fā)出的光經(jīng)過顯微鏡后被分光棱鏡分成兩部分，一束作為參考光入射到參考鏡并反射,，另一束作為測量光入射到樣品表面被反射,，兩束反射光反射到分光棱鏡并發(fā)生干涉。由于實驗中需要調(diào)節(jié)樣品與被測樣品的角度,，以便更好進行測量,，5XMichelson型干涉物鏡可以通過其配置的兩個旋鈕進行調(diào)節(jié)，旋鈕能夠在較大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)參考鏡角度,，可以調(diào)節(jié)到理想角度,。光纖在測試系統(tǒng)中負責傳光，將顯微鏡視場干涉信號傳輸?shù)轿⑿凸庾V儀,。系統(tǒng)選用光纖為海洋光學公司生產(chǎn)的高級光纖組件,，光纖連接線的內(nèi)層為硅樹脂包裹的單線鋼圈，外層為諾梅克斯編織物,，以求更好地減輕應(yīng)力并起到有效的保護作用,。該組件末段是易于操作的金屬環(huán)---...

薄膜在現(xiàn)代光學、電子,、醫(yī)療,、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，可以提高器件性能,。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響,，成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問題，導致其光學和物理性能無法達到設(shè)計要求,，嚴重影響其性能和應(yīng)用,。因此，需要開發(fā)出精度高,、體積小,、穩(wěn)定性好的測量系統(tǒng)以滿足微米級工業(yè)薄膜的在線檢測需求。當前的光學薄膜測厚方法無法同時兼顧高精度、輕小體積和合理的成本,，而具有納米級測量分辨率的商用薄膜測厚儀器價格昂貴,、體積大，無法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場的在線測量需求,。因此,，提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測量解決方案，研發(fā)了小型化,、低成本的薄膜厚度測量系統(tǒng),，并提出了一種無需標定...

微納制造技術(shù)的發(fā)展推動著檢測技術(shù)進入微納領(lǐng)域，微結(jié)構(gòu)和薄膜結(jié)構(gòu)作為微納器件的重要部分,，在半導體,、航天航空、醫(yī)學,、現(xiàn)代制造等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,。由于微小和精細的特征，傳統(tǒng)的檢測方法無法滿足要求,。白光干涉法被廣泛應(yīng)用于微納檢測領(lǐng)域,，具有非接觸、無損傷,、高精度等特點,。另外，光譜測量具有高效率和測量速度快的優(yōu)點,。因此,，這篇文章提出了一種白光干涉光譜測量方法，并構(gòu)建了相應(yīng)的測量系統(tǒng),。相比傳統(tǒng)的白光掃描干涉方法,，這種方法具有更強的環(huán)境噪聲抵御能力，并且測量速度更快,。精度高的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu),。納米級膜厚儀品牌企業(yè) 白光干涉法和激光光源相比具有短相干長度的特點,，使得兩束光...

作為重要元件,，薄膜通常以金屬、合金,、化合物,、聚合物等為主要基材，品類涵蓋了光學膜,、電隔膜,、阻隔膜、保護膜、裝飾膜等多種功能性薄膜,，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代光學,、電子、醫(yī)療,、能源,、建材等技術(shù)領(lǐng)域。常用薄膜的厚度范圍從納米級到微米級不等,。納米和亞微米級薄膜主要是基于干涉效應(yīng)調(diào)制的光學薄膜,，包括各種增透增反膜、偏振膜,、干涉濾光片和分光膜等,。部分薄膜經(jīng)過特殊工藝處理后還具有耐高溫、耐腐蝕,、耐磨損等特性,，對于通訊、顯示,、存儲等領(lǐng)域內(nèi)光學儀器的質(zhì)量起決定性作用,，例如平面顯示器使用的ITO鍍膜、太陽能電池表面的SiO2減反射膜等,。微米級以上的薄膜以工農(nóng)業(yè)薄膜為主,，多使用聚酯材料，具有易改性,、可回收,、適用范圍廣等特點。...

使用了迭代算法的光譜擬合法,，其優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法,。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量,。其缺點是不夠?qū)嵱?，該方法需要一個較好的薄膜的光學模型(包括色散系數(shù)、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng)),，但是在實際測試過程中，薄膜的色散和吸收的公式通常不準確,，尤其是對于多層膜體系,，建立光學模型非常困難，無法用公式準確地表示出來,。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型,，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求,。隨著技術(shù)的不斷進步和應(yīng)用領(lǐng)域的擴展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提高和拓展。膜厚儀定做由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對測...

白光干涉頻域解調(diào)是利用頻域分析解調(diào)信號的一種方法,。與時域解調(diào)裝置相比,，測量裝置幾乎相同，只需將光強測量裝置更換為光譜儀或CCD,。由于時域解調(diào)中接收到的信號是一定范圍內(nèi)所有波長光強疊加,，因此將頻譜信號中各個波長的光強疊加起來即可得到它對應(yīng)的時域接收信號。因此,，頻域的白光干涉條紋不僅包含了時域白光干涉條紋的所有信息,，而且包括了時域干涉條紋中沒有的波長信息。在頻域干涉中,，當兩束相干光的光程差遠大于光源的相干長度時,，仍然可以在光譜儀上觀察到頻域干涉條紋。這是由于光譜儀內(nèi)部的光柵具有分光作用,，可以將寬譜光變成窄帶光譜,，從而增加光譜的相干長度。這種解調(diào)技術(shù)的優(yōu)點是整個測量系統(tǒng)中沒有使用機械掃描部件,，因此在...

本文主要以半導體鍺和貴金屬金兩種材料為對象,，研究了白光干涉法、表面等離子體共振法和外差干涉法實現(xiàn)納米級薄膜厚度準確測量的可行性,。由于不同材料薄膜的特性不同,，所適用的測量方法也不同。半導體鍺膜具有折射率高,，在通信波段（1550nm附近）不透明的特點,，選擇采用白光干涉的測量方法；而厚度更薄的金膜的折射率為復數(shù),，且能激發(fā)明顯的表面等離子體效應(yīng),，因而可借助基于表面等離子體共振的測量方法；為了進一步改善測量的精度,，論文還研究了外差干涉測量法,，通過引入高精度的相位解調(diào)手段，檢測P光與S光之間的相位差提升厚度測量的精度,。白光干涉膜厚儀可以配合不同的軟件進行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫、統(tǒng)計數(shù)據(jù)等,。蘇州膜厚...

白光干涉的相干原理早在1975年就已經(jīng)被提出,，隨后于1976年在光纖通信領(lǐng)域中獲得了實現(xiàn)。1983年,，BrianCulshaw的研究小組報道了白光干涉技術(shù)在光纖傳感領(lǐng)域中的應(yīng)用,。隨后在1984年，報道了基于白光干涉原理的完整的位移傳感系統(tǒng),。該研究成果證明了白光干涉技術(shù)可以被用于測量能夠轉(zhuǎn)換成位移的物理參量,。此后的幾年間，白光干涉應(yīng)用于溫度,、壓力等的研究相繼被報道,。自上世紀九十年代以來，白光干涉技術(shù)快速發(fā)展,，提供了實現(xiàn)測量的更多的解決方案,。近幾年以來，由于傳感器設(shè)計與研制的進步,，信號處理新方案的提出,，以及傳感器的多路復用等技術(shù)的發(fā)展，使得白光干涉測量技術(shù)的發(fā)展更加迅***光干涉膜厚儀是一種用來測...

光譜儀主要包括六部分,，分別是：光纖入口,、準直鏡、光柵,、聚焦鏡,、區(qū)域檢測器、帶OFLV濾波器的探測器,。光由光纖進入光譜儀中,，通過濾波器和準直器后投射到光柵上，由光柵將白光色散成光譜,，經(jīng)過聚焦鏡將其投射到探測器上后,，由探測器將光信號傳入計算機。光纖接頭將輸入光纖固定在光譜儀上,，使得來自輸入光纖的光能夠進入光學平臺,；濾波器將光輻射限制在預定波長區(qū)域；準直鏡將進入光學平臺的光聚焦到光譜儀的光柵上,，保證光路和光柵之間的準直性,；光柵衍射來自準直鏡的光并將衍射光導向聚焦鏡；聚焦鏡接收從光柵反射的光并將光聚焦到探測器上,；探測器將檢測到的光信號轉(zhuǎn)換為nm波長系統(tǒng),；區(qū)域檢測器提供90％的量子效率和垂直列中的像素，...

由于靶丸自身特殊的特點和極端的實驗條件,，使得靶丸參數(shù)的測試工作變得異常復雜,。光學測量方法具有無損,、非接觸、測量效率高,、操作簡便等優(yōu)勢,，因此成為了測量靶丸參數(shù)的常用方式。目前常用于靶丸幾何參數(shù)或光學參數(shù)測量的方法有白光干涉法,、光學顯微干涉法,、激光差動共焦法等。然而,，靶丸殼層折射率是沖擊波分時調(diào)控實驗研究中的重要參數(shù),，因此對其進行精密測量具有重要意義。 常用的折射率測量方法有橢圓偏振法,、折射率匹配法,、白光光譜法、布儒斯特角法等,。廣泛應(yīng)用于電子,、半導體、光學,、化學等領(lǐng)域,，為研究和開發(fā)提供了有力的手段。高精度膜厚儀精度白光掃描干涉法可以避免色光相移干涉法測量的局限性,。該方法利用白光作為光源,，由于白光是...

白光干涉時域解調(diào)方案通過機械掃描部件驅(qū)動干涉儀的反射鏡移動，補償光程差,，實現(xiàn)對信號的解調(diào)。該系統(tǒng)的基本結(jié)構(gòu)如圖2-1所示,。光纖白光干涉儀的兩個輸出臂分別作為參考臂和測量臂,，用于將待測的物理量轉(zhuǎn)換為干涉儀兩臂的光程差變化。測量臂因待測物理量的變化而增加未知光程差,，參考臂則通過移動反射鏡來補償測量臂所引入的光程差,。當干涉儀兩臂光程差ΔL=0時，即兩個干涉光束的光程相等時,，將出現(xiàn)干涉極大值,，觀察到中心零級干涉條紋，這種現(xiàn)象與外界的干擾因素無關(guān),，因此可以利用它來獲取待測物理量的值,。會影響輸出信號強度的因素包括：入射光功率、光纖的傳輸損耗,、各端面的反射等,。雖然外界環(huán)境的擾動會影響輸出信號的強度,，但對...

薄膜是一種特殊的微結(jié)構(gòu)，在電子學,、摩擦學,、現(xiàn)代光學等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,，因此薄膜的測試技術(shù)變得越來越重要,。尤其是在厚度這一特定方向上，尺寸很小,，基本上都是微觀可測量的,。因此，在微納測量領(lǐng)域中,，薄膜厚度的測試是一個非常重要且實用的研究方向,。在工業(yè)生產(chǎn)中，薄膜的厚度直接影響薄膜是否能正常工作,。在半導體工業(yè)中,，膜厚的測量是硅單晶體表面熱氧化厚度以及平整度質(zhì)量控制的重要手段。薄膜的厚度會影響其電磁性能,、力學性能和光學性能等,，因此準確地測量薄膜的厚度成為一種關(guān)鍵技術(shù)。廣泛應(yīng)用于半導體,、光學,、電子、化學等領(lǐng)域,，為研究和開發(fā)提供了有力的手段,。光干涉膜厚儀找誰。白光干涉膜厚儀基于薄膜對白光的反射和透射產(chǎn)生干涉...

在初始相位為零的情況下,，當被測光與參考光之間的光程差為零時,，光強度將達到最大值。為了探測兩個光束之間的零光程差位置,，需要使用精密Z向運動臺帶動干涉鏡頭作垂直掃描運動,，或移動載物臺。在垂直掃描過程中,，可以用探測器記錄下干涉光強,，得到白光干涉信號強度與Z向掃描位置（兩光束光程差）之間的變化曲線。通過干涉圖像序列中某波長處的白光信號強度隨光程差變化的示意圖,，可以找到光強極大值位置,，即為零光程差位置。通過精確確定零光程差位置,，可以實現(xiàn)樣品表面相對位移的精密測量,。同時,，通過確定最大值對應(yīng)的Z向位置，也可以獲得被測樣品表面的三維高度,。操作需要一定的專業(yè)素養(yǎng)和經(jīng)驗,，需要進行充分的培訓和實踐。膜厚儀位移計根據(jù)...

在激光慣性約束核聚變實驗中,，靶丸的物性參數(shù)和幾何參數(shù)是靶丸制備工藝改進和仿真模擬核聚變實驗過程的基礎(chǔ),，因此如何對靶丸多個參數(shù)進行高精度、同步,、無損的綜合檢測是激光慣性約束核聚變實驗中的關(guān)鍵問題,。以上各種薄膜厚度及折射率的測量方法各有利弊，但針對本文實驗,，仍然無法滿足激光核聚變技術(shù)對靶丸參數(shù)測量的高要求,，靶丸參數(shù)測量存在以下問題：不能對靶丸進行破壞性切割測量，否則,，被破壞后的靶丸無法用于于下一步工藝處理或者打靶實驗,；需要同時測得靶丸的多個參數(shù)，不同參數(shù)的單獨測量,，無法提供靶丸制備和核聚變反應(yīng)過程中發(fā)生的結(jié)構(gòu)變化現(xiàn)象和規(guī)律,，并且效率低下、沒有統(tǒng)一的測量標準,。靶丸屬于自支撐球形薄膜結(jié)構(gòu),，曲面應(yīng)力大、...

由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄膜對系統(tǒng)的測量量程和精度的需求不盡相同,，因而多種測量方法各有優(yōu)缺,，難以一概而論。按照薄膜厚度的增加,，適用的測量方式分別為橢圓偏振法,、分光光度法、共聚焦法和干涉法,。對于小于1μm的較薄薄膜,，白光干涉輪廓儀的測量精度較低，分光光度法和橢圓偏振法較適合,。而對于小于200nm的薄膜,，由于透過率曲線缺少峰谷值，橢圓偏振法結(jié)果更可靠,?；诎坠飧缮嬖淼墓鈱W薄膜厚度測量方案目前主要集中于測量透明或者半透明薄膜，通過使用不同的解調(diào)技術(shù)處理白光干涉的圖樣，得到待測薄膜厚度,。本章在詳細研究白光干涉測量技術(shù)的常用解調(diào)方案,、解調(diào)原理及其局限性的基礎(chǔ)上，分析得到了常用的基于兩個相鄰干涉峰的白光干涉...

傅里葉變換是白光頻域解調(diào)方法中一種低精度的信號解調(diào)方法,。早是由G.F.Fernando和T.Liu等人提出,，用于低精度光纖法布里-珀羅傳感器的解調(diào)。因此,，該解調(diào)方案的原理是通過傅里葉變換得到頻域的峰值頻率從而獲得光程差,，進而得到待測物理量的信息。傅里葉變換解調(diào)方案的優(yōu)點是解調(diào)速度較快,，受干擾信號的影響較小,。但是其測量精度較低,。根據(jù)數(shù)字信號處理FFT（快速傅里葉變換）理論,，若輸入光源波長范圍為λ1,λ2，則所測光程差的理論小分辨率為λ1λ2/(λ2?λ1),，所以此方法主要應(yīng)用于對解調(diào)精度要求不高的場合,。傅里葉變換白光干涉法是對傅里葉變換法的改進。該方法總結(jié)起來就是對采集到的光譜信號做傅里葉變換,，...

使用了迭代算法的光譜擬合法,，其優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺傳算法和模擬退火算法等新算法被用于薄膜參數(shù)的測量,。其缺點是不夠?qū)嵱茫摲椒ㄐ枰粋€較好的薄膜的光學模型(包括色散系數(shù),、吸收系數(shù),、多層膜系統(tǒng))，但是在實際測試過程中,，薄膜的色散和吸收的公式通常不準確,，尤其是對于多層膜體系，建立光學模型非常困難,，無法用公式準確地表示出來,。在實際應(yīng)用中只能使用簡化模型，因此,，通常全光譜擬合法不如極值法有效,。另外該方法的計算速度慢也不能滿足快速計算的要求。隨著技術(shù)的進步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,，白光干涉膜厚儀的性能和功能將不斷提升和擴展,。薄膜干涉膜厚儀找哪里由于不同性質(zhì)和形態(tài)的薄...

本章介紹了基于白光反射光譜和白光垂直掃描干涉聯(lián)用的靶丸殼層折射率測量方法。該方法利用白光反射光譜測量靶丸殼層光學厚度，利用白光垂直掃描干涉技術(shù)測量光線通過靶丸殼層后的光程增量,，結(jié)合起來即可得到靶丸的折射率和厚度數(shù)據(jù),。在實驗數(shù)據(jù)處理方面，為解決白光干涉光譜中波峰位置難以精確確定和單極值點判讀可能存在干涉級次誤差的問題,，提出了利用MATLAB曲線擬合確定極值點波長以及根據(jù)干涉級次連續(xù)性進行干涉級次判斷的數(shù)據(jù)處理方法,。通過應(yīng)用碳氫(CH)薄膜進行實驗驗證，證明該方法具有較高的測量精度和可靠性,。這種膜厚儀可以測量大氣壓下,，1 nm到1mm范圍內(nèi)的薄膜厚度。小型膜厚儀詳情白光干涉在零光程差處,，出現(xiàn)零級干...

白光干涉測量技術(shù),，也被稱為光學低相干干涉測量技術(shù)，使用的是低相干的寬譜光源,，例如發(fā)光二極管,、超輻射發(fā)光二極管等。同所有的光學干涉原理一樣,，白光干涉同樣是通過觀察干涉圖樣的變化來分析干涉光程差的變化,，進而通過各種解調(diào)方案實現(xiàn)對待測物理量的測量。采用寬譜光源的優(yōu)點是由于白光光源的相干長度很?。ㄒ话銥閹孜⒚椎綆资⒚字g）,，所有波長的零級干涉條紋重合于主極大值，即中心條紋,，與零光程差的位置對應(yīng),。中心零級干涉條紋的存在使測量有了一個可靠的位置的參考值，從而只用一個干涉儀即可實現(xiàn)對被測物理量的測量,，克服了傳統(tǒng)干涉儀無法實現(xiàn)測量的缺點,。同時，相比于其他測量技術(shù),白光干涉測量方法還具有對環(huán)境不敏感,、抗干擾能...

白光干涉光譜分析是目前白光干涉測量的一個重要方向,，此項技術(shù)主要是利用光譜儀將對條紋的測量轉(zhuǎn)變成為對不同波長光譜的測量。通過分析被測物體的光譜特性,，就能夠得到相應(yīng)的長度信息和形貌信息,。相比于白光掃描干涉術(shù)，它不需要大量的掃描過程,，因此提高了測量效率,，而且也減小了環(huán)境對它的影響。此項技術(shù)能夠測量距離,、位移,、塊狀材料的群折射率以及多層薄膜厚度。白干干涉光譜法是基于頻域干涉的理論，采用白光作為寬波段光源,，經(jīng)過分光棱鏡,，被分成兩束光，這兩束光分別入射到參考鏡和被測物體,，反射回來后經(jīng)過分光棱鏡合成后,，由色散元件分光至探測器，記錄頻域上的干涉信號,。此光譜信號包含了被測表面的信息,，如果此時被測物體是薄膜，則薄...

目前,，應(yīng)用的顯微干涉方式主要有Mirau顯微干涉和Michelson顯微干涉兩張方式,。在Mirau型顯微干涉結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中物鏡和被測樣品之間有兩塊平板,，一個是涂覆有高反射膜的平板作為參考鏡,，另一塊涂覆半透半反射膜的平板作為分光棱鏡，由于參考鏡位于物鏡和被測樣品之間,，從而使物鏡外殼更加緊湊,，工作距離相對而言短一些，其倍率一般為10-50倍,，Mirau顯微干涉物鏡參考端使用與測量端相同顯微物鏡，因此沒有額外的光程差,。是常用的方法之一,。可以配合不同的軟件進行分析和數(shù)據(jù)處理,，例如建立數(shù)據(jù)庫,、統(tǒng)計數(shù)據(jù)等。國產(chǎn)膜厚儀定做莫侯伊膜厚儀在半導體行業(yè)中具有重要的應(yīng)用價值膜厚儀的測量原理主要基于光學干涉原理,。當...

利用包絡(luò)線法計算薄膜的光學常數(shù)和厚度,，但還存在很多不足，包絡(luò)線法需要產(chǎn)生干涉波動,，要求在測量波段內(nèi)存在多個干涉極值點,，且干涉極值點足夠多，精度才高,。理想的包絡(luò)線是根據(jù)聯(lián)合透射曲線的切點建立的,，在沒有正確方法建立包絡(luò)線時，通常使用拋物線插值法建立,，這樣造成的誤差較大,。包絡(luò)法對測量對象要求高，如果薄膜較薄或厚度不足情況下，會造成干涉條紋減少,，干涉波峰個數(shù)較少,，要利用干涉極值點建立包絡(luò)線就越困難，且利用拋物線插值法擬合也很困難,，從而降低該方法的準確度,。其次，薄膜吸收的強弱也會影響該方法的準確度,，對于吸收較強的薄膜,，隨干涉條紋減少，極大值與極小值包絡(luò)線逐漸匯聚成一條曲線,，該方法就不再適用,。因此，包絡(luò)法...

薄膜在現(xiàn)代光學,、電子,、醫(yī)療、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,，可以提高器件性能,。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響，成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問題,，導致其光學和物理性能無法達到設(shè)計要求,，嚴重影響其性能和應(yīng)用。因此,，需要開發(fā)出精度高,、體積小、穩(wěn)定性好的測量系統(tǒng)以滿足微米級工業(yè)薄膜的在線檢測需求,。當前的光學薄膜測厚方法無法同時兼顧高精度,、輕小體積和合理的成本，而具有納米級測量分辨率的商用薄膜測厚儀器價格昂貴,、體積大,，無法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場的在線測量需求。因此,，提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測量解決方案,，研發(fā)了小型化、低成本的薄膜厚度測量系統(tǒng),，并提出了一種無需標定...

白光光譜法克服了干涉級次的模糊識別問題,，具有測量范圍大，連續(xù)測量時波動范圍小的特點,，但在實際測量中,，由于測量誤差,、儀器誤差、擬合誤差等因素,，干涉級次的測量精度仍其受影響,，會出現(xiàn)干擾級次的誤判和干擾級次的跳變現(xiàn)象。導致公式計算得到的干擾級次m值與實際譜峰干涉級次m'(整數(shù))之間有誤差,。為得到準確的干涉級次,，本文依據(jù)干涉級次的連續(xù)特性設(shè)計了校正流程圖，獲得了靶丸殼層光學厚度的精確值,。導入白光干涉光譜測量曲線,。該儀器的工作原理是通過測量反射光的干涉來計算膜層厚度，基于反射率和相位差,。納米級膜厚儀推薦廠家使用了迭代算法的光譜擬合法,，其優(yōu)缺點在很大程度上取決于所選擇的算法。隨著各種全局優(yōu)化算法的引入,，遺...