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廈門UV納米光刻膠工廠

來源： 發(fā)布時間：2025-06-11

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料

YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性,，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。
YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm,，線寬粗糙度（LWR）≤3nm,，適用于半導體芯片前道工藝。其耐溶劑性與絕緣阻抗性能突出,，在顯影與蝕刻過程中保持圖形穩(wěn)定性,。產品已通過中芯國際量產驗證，良率達 98% 以上,，生產過程執(zhí)行 ISO9001 標準,，幫助客戶降低封裝成本 20% 以上。支持小批量試產與定制化需求,，為國產芯片制造提供穩(wěn)定材料支撐,。
松山湖企業(yè)深耕光刻膠領域二十載，提供全系列半導體材料解決方案,。廈門UV納米光刻膠工廠

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 光伏電池（半導體級延伸）
? HJT/TOPCon電池：在硅片表面圖形化金屬電極,，使用高靈敏度光刻膠（曝光能量≤50mJ/cm2），線寬≤20μm,，降低遮光損失,。

? 鈣鈦礦電池：用于電極圖案化和層間隔離，需耐有機溶劑（適應溶液涂布工藝）,。

 納米壓印技術（下一代光刻）

? 納米壓印光刻膠：通過模具壓印實現(xiàn)10nm級分辨率,，用于3D NAND存儲孔陣列（直徑≤20nm）、量子點顯示陣列等。

 微流控與生物醫(yī)療

? 微流控芯片：制造微米級流道（寬度10-100μm）,，材料需生物相容性（如PDMS基材適配）,。

? 生物檢測芯片：通過光刻膠圖案化抗體/抗原固定位點，精度≤5μm,。
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納米壓印光刻膠


  • 微納光學器件制造：制作衍射光學元件,、微透鏡陣列等微納光學器件時,，納米壓印光刻膠可實現(xiàn)高精度的微納結構復制。通過納米壓印技術,，將模板上的微納圖案轉移到光刻膠上,，再經(jīng)過后續(xù)處理，可制造出具有特定光學性能的微納光學器件,，應用于光通信,、光學成像等領域。
  • 生物芯片制造：在 DNA 芯片,、蛋白質芯片等生物芯片的制造中,，需要在芯片表面構建高精度的微納結構，用于生物分子的固定和檢測,。納米壓印光刻膠可幫助實現(xiàn)這些精細結構的制作,，提高生物芯片的檢測靈敏度和準確性。


    • ? 正性光刻膠

    ? YK-300：適用于半導體制造,，具備高分辨率（線寬≤10μm）,、耐高溫（250℃）、耐酸堿腐蝕特性,，主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,，適配UV光源（365nm/405nm）。

    ? 技術優(yōu)勢：采用進口樹脂及光引發(fā)劑,，絕緣阻抗高（>10^14Ω）,，滿足半導體器件對絕緣性的嚴苛要求。

    ? 負性光刻膠

    ? JT-1000：負性膠,，主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,，分辨率達3μm，適用于功率半導體,、MEMS器件制造,，可承受氫氟酸（HF）、磷酸（H3PO4）等強腐蝕液處理,。

    ? SU-3：經(jīng)濟型負性膠,，性價比高,，適用于分立器件及低端邏輯芯片，光源適應性廣（248nm-436nm）,，曝光靈敏度≤200mJ/cm2,。

    2. 顯示面板光刻膠

    ? LCD正性光刻膠YK-200：專為TFT-LCD制程設計，具備高涂布均勻性（膜厚誤差±1%）,、良好的基板附著力,，用于彩色濾光片（CF）和陣列基板（Array）制造，支持8.5代線以上大規(guī)模生產,。

    ? 水性感光膠JT-1200：環(huán)保型產品，VOC含量<50g/L,，符合歐盟RoHS標準,，適用于柔性顯示基板，可制作20μm以下精細網(wǎng)點,，主要供應京東方,、TCL等面板廠商。

    吉田半導體全流程解決方案,，賦能客戶提升生產效率,。

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    廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產品，各有特性與優(yōu)勢,，適用于不同領域,。

    LCD 正性光刻膠 YK - 200：具有較大曝光、高分辨率,、良好涂布和附著力的特點,，重量 100g。適用于液晶顯示領域的光刻工藝,，能確保 LCD 生產過程中圖形的精確轉移和良好的涂布效果,。

    半導體正性光刻膠 YK - 300：具備耐熱耐酸、耐溶劑性,、絕緣阻抗和緊密性,，重量 100g。主要用于半導體制造工藝,，滿足半導體器件對光刻膠在化學穩(wěn)定性和電氣性能方面的要求,。

    耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蝕的特性,，適用于在有腐蝕風險的光刻工藝中,，比如一些特殊環(huán)境下的半導體加工或電路板制造。 水性感光膠推薦吉田 JT-1200,，水油兼容配方,，鋼片加工精度 ±5μm,！廈門LCD光刻膠感光膠

    半導體光刻膠：技術領域取得里程碑。廈門UV納米光刻膠工廠

    產品優(yōu)勢：多元化布局與專業(yè)化延伸

     全品類覆蓋
    吉田產品涵蓋芯片光刻膠,、納米壓印光刻膠,、LCD光刻膠、半導體錫膏等,，形成“光刻膠+配套材料”的完整產品線,。例如：

    ? 芯片光刻膠：覆蓋i線、g線光刻膠,，適用于6英寸,、8英寸晶圓制造。

    ? 納米壓印光刻膠：用于MEMS,、光學器件等領域,，替代傳統(tǒng)光刻工藝。

     專業(yè)化延伸
    公司布局半導體用KrF光刻膠,，計劃2025年啟動研發(fā),，目標進入中芯國際、長江存儲等晶圓廠供應鏈,。

    質量與生產優(yōu)勢：嚴格品控與自動化生產

     ISO認證與全流程管控
    公司通過ISO9001:2008質量體系認證,，生產環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美,、德,、日進口高質量材料，確保產品批次穩(wěn)定性,。
    質量指標：光刻膠金屬離子含量低于0.1ppb,，良率超99%。

     自動化生產能力
    擁有行業(yè)前列的全自動化生產線,，年產能達2000噸（光刻膠及配套材料）,，支持大規(guī)模訂單交付。

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    標簽： 錫片 光刻膠 錫膏