EVG?320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng) 用途:自動(dòng)單晶片清洗系統(tǒng),,可有效去除顆粒 EVG320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng)可在處理站之間自動(dòng)處理晶圓和基板。機(jī)械手處理系統(tǒng)可確保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自動(dòng)預(yù)對(duì)準(zhǔn)和裝載晶圓。除了使用去離子水沖洗外,,配置選項(xiàng)還包括兆頻,,刷子和稀釋的化學(xué)藥品清洗,。 特征 多達(dá)四個(gè)清潔站 全自動(dòng)盒帶間或FOUP到FOUP處理 可進(jìn)行雙面清潔的邊緣處理(可選) 使用1MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器(可選)進(jìn)行高/效清潔 先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷 防止從背面到正面的交叉污染 完全由軟件控制的清潔過程 EVG500系列鍵合...
SmartView?NT自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,用于通用對(duì)準(zhǔn),。 全自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),采用微米級(jí)面對(duì)面晶圓對(duì)準(zhǔn)的專有方法進(jìn)行通用對(duì)準(zhǔn),。 用于通用對(duì)準(zhǔn)的SmartViewNT自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供了微米級(jí)面對(duì)面晶圓級(jí)對(duì)準(zhǔn)的專有方法,。這種對(duì)準(zhǔn)技術(shù)對(duì)于在嶺先技術(shù)的多個(gè)晶圓堆疊中達(dá)到所需的精度至關(guān)重要。SmartView技術(shù)可以與GEMINI晶圓鍵合系統(tǒng)結(jié)合使用,,以在隨后的全自動(dòng)平臺(tái)上進(jìn)行長久鍵合,。 特征: 適合于自動(dòng)化和集成EVG鍵合系統(tǒng)(EVG560?,GEMINI?200和300mm配置),。 用于3D互連,,晶圓級(jí)封裝和大批量MEMS器件的晶圓堆疊。 EVG501鍵合機(jī):桌...
EVG?6200BA自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 用于晶圓間對(duì)準(zhǔn)的自動(dòng)化鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,用于中等和批量生產(chǎn) 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供了蕞/高的精度,,靈活性和易用性,模塊化升級(jí)功能,,并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證,。EVG鍵對(duì)準(zhǔn)器的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對(duì)準(zhǔn)過程。 特征 適用于EVG所有的200mm鍵合系統(tǒng) 支持蕞/大200mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵合對(duì)準(zhǔn) 手動(dòng)或電動(dòng)對(duì)中平臺(tái),,帶有自動(dòng)對(duì)中選項(xiàng) 全電動(dòng)高/分辨率底面顯微鏡 基于Windows的用戶界面EVG鍵合機(jī)鍵合工藝可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行,。臺(tái)積電鍵合機(jī)應(yīng)用 SmartView?NT自...
臨時(shí)鍵合系統(tǒng): 臨時(shí)鍵合是為薄晶圓或超薄晶圓提供機(jī)械支撐的必不可少的過程,這對(duì)于3DIC,,功率器件和FoWLP晶圓以及處理易碎基板(例如化合物半導(dǎo)體)非常重要,。借助于中間臨時(shí)鍵合粘合劑將器件晶片鍵合到載體晶片上,從而可以通過附加的機(jī)械支撐來處理通常易碎的器件晶片,。在關(guān)鍵工藝之后,,將晶片堆疊剝離。EVG出色的鍵合技術(shù)在其臨時(shí)鍵合設(shè)備中得到了體現(xiàn),,該設(shè)備自2001年以來一直由該公司提供,。包含型號(hào):EVG805解鍵合系統(tǒng);EVG820涂敷系統(tǒng),;EVG850TB臨時(shí)鍵合系統(tǒng),;EVG850DB自動(dòng)解鍵合系統(tǒng)。 Smart View?NT-適用于GEMINI和GEMINI FB,,讓晶圓在晶圓鍵合...
半導(dǎo)體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法,。晶圓間鍵合是實(shí)現(xiàn)3D堆疊設(shè)備的重要工藝步驟。然而,,需要晶片之間的緊密對(duì)準(zhǔn)和覆蓋精度以在鍵合晶片上的互連器件之間實(shí)現(xiàn)良好的電接觸,,并*小化鍵合界面處的互連面積,從而可以在晶片上騰出更多空間用于生產(chǎn)設(shè)備,。支持組件路線圖所需的間距不斷減小,,這推動(dòng)了每一代新產(chǎn)品的更嚴(yán)格的晶圓間鍵合規(guī)范,。 imec 3D系統(tǒng)集成兼項(xiàng)目總監(jiān)兼Eric Beyne表示:“在imec,我們相信3D技術(shù)的力量將為半導(dǎo)體行業(yè)創(chuàng)造新的機(jī)遇和可能性,,并且我們將投入大量精力來改善它,。“特別關(guān)注的領(lǐng)域是晶圓對(duì)晶圓的鍵合,,在這一方面,,我們通過與...
在鍵合過程中,將兩個(gè)組件的表面弄平并徹底清潔以確保它們之間的緊密接觸,。然后它們被夾在兩個(gè)電極之間,,加熱至752-932℃(華氏400-500攝氏度),和幾百到千伏的電勢(shì)被施加,,使得負(fù)電極,,這就是所謂的陰極,是在接觸在玻璃中,,正極(陽極)與硅接觸,。玻璃中帶正電的鈉離子變得可移動(dòng)并向陰極移動(dòng),在與硅片的邊界附近留下少量的正電荷,,然后通過靜電吸引將其保持在適當(dāng)?shù)奈恢?。帶?fù)電的氧氣來自玻璃的離子向陽極遷移,并在到達(dá)邊界時(shí)與硅反應(yīng),,形成二氧化硅(SiO 2),。產(chǎn)生的化學(xué)鍵將兩個(gè)組件密封在一起。業(yè)內(nèi)主流鍵合機(jī)使用工藝:黏合劑,,陽極,,直接/熔融,玻璃料,,焊料(含共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴(kuò)散/熱壓縮,。當(dāng)?shù)貎r(jià)格鍵...
EVG?510晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng): 用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的晶圓鍵合系統(tǒng)-與大批量生產(chǎn)設(shè)備完全兼容。 特色: EVG510是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可以處理從碎片到200mm的基板尺寸,。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,例如陽極,,玻璃粉,,焊料,,共晶,,瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設(shè)計(jì)允許對(duì)不同的晶圓尺寸和工藝進(jìn)行快速便捷的重新工具化,,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到5分鐘,。這種多功能性非常適合大學(xué),,研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn)應(yīng)用。EVG大批量制造工具(例如EVGGEMINI)上的鍵合室設(shè)計(jì)相同,,鍵合程序易于轉(zhuǎn)移,,可輕松擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模。 晶圓鍵合機(jī)(系統(tǒng))EVG?510 ,,擁有150,、200...
EVG?6200鍵合機(jī)選件 自動(dòng)對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn),用于內(nèi)部基板鍵對(duì)準(zhǔn) NanoAlign?包增強(qiáng)加工能力 可與系統(tǒng)機(jī)架一起使用 掩模對(duì)準(zhǔn)器的升級(jí)可能性 技術(shù)數(shù)據(jù) 常規(guī)系統(tǒng)配置 桌面 系統(tǒng)機(jī)架:可選 隔振:被動(dòng) 對(duì)準(zhǔn)方法 背面對(duì)準(zhǔn):±2μm3σ 透明對(duì)準(zhǔn):±1μm3σ 紅外校準(zhǔn):選件 對(duì)準(zhǔn)階段 精密千分尺:手動(dòng) 可選:電動(dòng)千分尺 楔形補(bǔ)償:自動(dòng) 基板/晶圓參數(shù) 尺寸:2英寸,,3英寸,,100毫米,150毫米,,200毫米 厚度:0.1-10毫米 蕞/高堆疊高度:10毫米 自動(dòng)對(duì)準(zhǔn) 可選的 處理系統(tǒng) 標(biāo)準(zhǔn):3個(gè)卡帶站 可選:蕞多5個(gè)站EVG鍵合機(jī)提供的加工服務(wù),。江蘇鍵合機(jī)實(shí)際價(jià)格EVG?850LT的Lo...
針對(duì)表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的封裝展開研究,以采用 Ti / Au 作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合為對(duì)象,,提出一種表面帶有微結(jié)構(gòu)的硅—硅共晶鍵合工藝,,以親水濕法表面活化處理降低硅片表面雜質(zhì)含量,以微裝配平臺(tái)與鍵合機(jī)控制鍵合環(huán)境及溫度來保證鍵合精度與鍵合強(qiáng)度,,使用恒溫爐進(jìn)行低溫退火,,解決鍵合對(duì)硅晶圓表面平整度和潔凈度要求極高,環(huán)境要求苛刻的問題,。高低溫循環(huán)測(cè)試試驗(yàn)與既定拉力破壞性試驗(yàn)結(jié)果表明: 提出的工藝在保證了封裝組件封裝強(qiáng)度的同時(shí),,具有工藝溫度低、容易實(shí)現(xiàn)圖形化,、應(yīng)力匹配度高等優(yōu)點(diǎn),。EVG鍵合機(jī)通過控制溫度,壓力,,時(shí)間和氣體,,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過程。SmartView NT鍵合機(jī)保修期多久共晶鍵...
EVG?850鍵合機(jī) EVG?850鍵合機(jī)特征 生產(chǎn)系統(tǒng)可在高通量,,高產(chǎn)量環(huán)境中運(yùn)行 自動(dòng)盒帶間或FOUP到FOUP操作 無污染的背面處理 超音速和/或刷子清潔 機(jī)械平整或缺口對(duì)準(zhǔn)的預(yù)鍵合 先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷 技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑(基板尺寸) 100-200,、150-300毫米 全自動(dòng)盒帶到盒帶操作 預(yù)鍵合室 對(duì)準(zhǔn)類型:平面到平面或凹口到凹口 對(duì)準(zhǔn)精度:X和Y:±50μm,θ:±0.1° 結(jié)合力:蕞/高5N 鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活 真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),,超音速噴嘴,,超音速面積傳感器,噴嘴,,刷子(可選...
熔融和混合鍵合系統(tǒng): 熔融或直接晶圓鍵合可通過每個(gè)晶圓表面上的介電層長久連接,,該介電層用于工程襯底或?qū)愚D(zhuǎn)移應(yīng)用,例如背面照明的CMOS圖像傳感器。 混合鍵合擴(kuò)展了與鍵合界面中嵌入的金屬焊盤的熔融鍵合,,從而允許晶片面對(duì)面連接,。混合綁定的主要應(yīng)用是高級(jí)3D設(shè)備堆疊,。 EVG的熔融和混合鍵合設(shè)備包含:EVG301單晶圓清洗系統(tǒng),;EVG320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng);EVG810LT低溫等離子基活系統(tǒng),;EVG850LTSOI和晶圓直接鍵合自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),;EVG850SOI和晶圓直接鍵合自動(dòng)化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng);GEMINIFB自動(dòng)化生產(chǎn)晶圓鍵合系統(tǒng),;BONDSCALE自動(dòng)化熔融鍵合生產(chǎn)...
EVG?320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng) 用途:自動(dòng)單晶片清洗系統(tǒng),可有效去除顆粒 EVG320自動(dòng)化單晶圓清洗系統(tǒng)可在處理站之間自動(dòng)處理晶圓和基板,。機(jī)械手處理系統(tǒng)可確保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自動(dòng)預(yù)對(duì)準(zhǔn)和裝載晶圓,。除了使用去離子水沖洗外,配置選項(xiàng)還包括兆頻,,刷子和稀釋的化學(xué)藥品清洗,。 特征 多達(dá)四個(gè)清潔站 全自動(dòng)盒帶間或FOUP到FOUP處理 可進(jìn)行雙面清潔的邊緣處理(可選) 使用1MHz的超音速噴嘴或區(qū)域傳感器(可選)進(jìn)行高/效清潔 先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷 防止從背面到正面的交叉污染 完全由軟件控制的清潔過程 自動(dòng)鍵合系統(tǒng)EVG?...
EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片,。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,,如陽極,玻璃料,,焊料,,共晶,瞬態(tài)液相和直接鍵合,。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),,讓用戶能快速,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,,轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘,。這種多功能性非常適合大學(xué),研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn),。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM(量產(chǎn))工具上是相同的,,例如GEMINI,鍵合程序很容易轉(zhuǎn)移,,這樣可以輕松擴(kuò)大生產(chǎn)量,。EVG鍵合機(jī)軟件,支持多語言,集成錯(cuò)誤記錄/報(bào)告和恢復(fù)和單個(gè)用戶帳戶設(shè)置,,可以簡化用戶常規(guī)操作。湖南SUSS鍵合機(jī)鍵合卡盤承載來自對(duì)...
ComBond自動(dòng)化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng),,高真空晶圓鍵合平臺(tái)促進(jìn)“任何物上的任何東西”的共價(jià)鍵合特色技術(shù)數(shù)據(jù),,EVGComBond高真空晶圓鍵合平臺(tái)標(biāo)志著EVG獨(dú)特的晶圓鍵合設(shè)備和技術(shù)產(chǎn)品組合中的一個(gè)新里程碑,可滿足市場對(duì)更復(fù)雜的集成工藝的需求ComBond支持的應(yīng)用領(lǐng)域包括先進(jìn)的工程襯底,,堆疊的太陽能電池和功率器件到**MEMS封裝,,高性能邏輯和“beyondCMOS”器件ComBond系統(tǒng)的模塊化集群設(shè)計(jì)提供了高度靈活的平臺(tái),可以針對(duì)研發(fā)和高通量,,大批量制造環(huán)境中的各種苛刻的客戶需求量身定制ComBond促進(jìn)了具有不同晶格常數(shù)和熱膨脹系數(shù)(CTE)的異質(zhì)材料的鍵合,,并通過其獨(dú)特的氧化物去...
EVG?850LT的LowTemp?等離子激/活模塊 2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體:N2和O2以及2種其他工藝氣體:高純度氣體(99.999%),稀有氣體(Ar,,He,,Ne等)和形成氣體(N2,Ar含量蕞/高為4%的氣體)2) 通用質(zhì)量流量控制器:蕞多可對(duì)4種工藝氣體進(jìn)行自校準(zhǔn),,可對(duì)配方進(jìn)行編程,,流速蕞/高可達(dá)到20.000sccm 真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件),高頻RF發(fā)生器和匹配單元 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),,超音速噴嘴,,超音速面積傳感器,噴嘴,,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成 清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),,NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%濃...
EVG?510晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng): 用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的晶圓鍵合系統(tǒng)-與大批量生產(chǎn)設(shè)備完全兼容,。 特色: EVG510是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可以處理從碎片到200mm的基板尺寸。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,,例如陽極,,玻璃粉,焊料,,共晶,,瞬態(tài)液相和直接法。易于使用的鍵合腔室和工具設(shè)計(jì)允許對(duì)不同的晶圓尺寸和工藝進(jìn)行快速便捷的重新工具化,,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到5分鐘,。這種多功能性非常適合大學(xué),研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn)應(yīng)用,。EVG大批量制造工具(例如EVGGEMINI)上的鍵合室設(shè)計(jì)相同,,鍵合程序易于轉(zhuǎn)移,可輕松擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模。 EVG鍵合機(jī)晶圓鍵合類型有:陽極鍵合,、瞬間液相鍵合,、共...
EVG501晶圓鍵合機(jī),先進(jìn)封裝,,TSV,,微流控加工?;竟δ埽河糜趯W(xué)術(shù)和工業(yè)研究的多功能手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),。適用于:微流體芯片,半導(dǎo)體器件處理,,MEMS制造,,TSV制作,晶圓先進(jìn)封裝等,。 一,、簡介: EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可處理從單芯片到150mm(200mm鍵合室的情況下為200mm)的基片,。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,,如陽極,玻璃料,,焊料,,共晶,瞬態(tài)液相和直接鍵合,。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),,讓用戶能快速,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,,轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘,。這種多功能性非常適合大學(xué),研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn),。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM(量產(chǎn))...
EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,,如陽極,,玻璃料,焊料,,共晶,,瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),,讓用戶能快速,,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,,轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘。這種多功能性非常適合大學(xué),,研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn),。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM(量產(chǎn))工具上是相同的,例如GEMINI,,鍵合程序很容易轉(zhuǎn)移,,這樣可以輕松擴(kuò)大生產(chǎn)量。EVG鍵合機(jī)支持全系列晶圓鍵合工藝,,這對(duì)于當(dāng)今和未來的器件制造是至關(guān)重要,。廣西EVG805鍵合機(jī)在鍵合過程中,,將兩個(gè)組件的表面弄平并...
EVG?810LT技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑(基板尺寸) 50-200,、100-300毫米 LowTemp?等離子活化室 工藝氣體:2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體(N2和O2) 通用質(zhì)量流量控制器:自校準(zhǔn)(高達(dá)20.000sccm) 真空系統(tǒng):9x10-2mbar 腔室的打開/關(guān)閉:自動(dòng)化 腔室的加載/卸載:手動(dòng)(將晶圓/基板放置在加載銷上) 可選功能: 卡盤適用于不同的晶圓尺寸 無金屬離子活化 混合氣體的其他工藝氣體 帶有渦輪泵的高真空系統(tǒng):9x10-3mbar基本壓力 符合LowTemp?等離...
鍵合卡盤承載來自對(duì)準(zhǔn)器對(duì)準(zhǔn)的晶圓堆疊,以執(zhí)行隨后的鍵合過程,??梢允褂眠m合每個(gè)通用鍵合室的**卡盤來處理各種尺寸的晶圓和鍵合應(yīng)用。 EVG?501/EVG?510/EVG?520IS是用于研發(fā)的鍵合機(jī),。 晶圓鍵合類型 ■陽極鍵合 ■黏合劑鍵合 ■共熔鍵合 ■瞬間液相鍵合 ■熱壓鍵合 EVG鍵合機(jī)特征 ■基底高達(dá)200mm ■壓力高達(dá)100kN ■溫度高達(dá)550°C ■真空氣壓低至1·10-6mbar ■可選:陽極,,UV固化,650℃加熱器 EVG鍵合機(jī)加工服務(wù) EVG設(shè)備的晶圓加工服務(wù)包含如下: ■等離子活化直接鍵合 ■ComBond? -硅和化合物半導(dǎo)體的導(dǎo)電鍵合 ■高真空對(duì)準(zhǔn)鍵合 ■臨時(shí)鍵...
EVG?850TB 自動(dòng)化臨時(shí)鍵合系統(tǒng) 全自動(dòng)將臨時(shí)晶圓晶圓鍵合到剛性載體上 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) 全自動(dòng)的臨時(shí)鍵合系統(tǒng)可在一個(gè)自動(dòng)化工具中實(shí)現(xiàn)整個(gè)臨時(shí)鍵合過程-從臨時(shí)鍵合劑的施加,,烘焙,,將設(shè)備晶圓與載體晶圓的對(duì)準(zhǔn)和鍵合開始。與所有EVG的全自動(dòng)工具一樣,,設(shè)備布局是模塊化的,,這意味著可以根據(jù)特定過程對(duì)吞吐量進(jìn)行優(yōu)化??蛇x的在線計(jì)量模塊允許通過反饋回路進(jìn)行全過程監(jiān)控和參數(shù)優(yōu)化,。 由于EVG的開放平臺(tái),因此可以使用不同類型的臨時(shí)鍵合粘合劑,,例如旋涂熱塑性塑料,,熱固性材料或膠帶。EVG的EVG?501 / EVG?510 / EVG?520 IS這幾個(gè)型號(hào)用于研發(fā)的鍵合機(jī),。山東低溫鍵合機(jī)鍵合機(jī)特征 高真空...
SmartView?NT自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,用于通用對(duì)準(zhǔn)。 全自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),,采用微米級(jí)面對(duì)面晶圓對(duì)準(zhǔn)的專有方法進(jìn)行通用對(duì)準(zhǔn),。 用于通用對(duì)準(zhǔn)的SmartViewNT自動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供了微米級(jí)面對(duì)面晶圓級(jí)對(duì)準(zhǔn)的專有方法。這種對(duì)準(zhǔn)技術(shù)對(duì)于在嶺先技術(shù)的多個(gè)晶圓堆疊中達(dá)到所需的精度至關(guān)重要,。SmartView技術(shù)可以與GEMINI晶圓鍵合系統(tǒng)結(jié)合使用,,以在隨后的全自動(dòng)平臺(tái)上進(jìn)行長久鍵合,。 特征: 適合于自動(dòng)化和集成EVG鍵合系統(tǒng)(EVG560?,GEMINI?200和300mm配置),。 用于3D互連,,晶圓級(jí)封裝和大批量MEMS器件的晶圓堆疊。 EVG鍵合機(jī)通過控制溫...
目前關(guān)于晶片鍵合的研究很多,,工藝日漸成熟,,但是對(duì)于表面帶有微結(jié)構(gòu)的硅片鍵合研究很少,鍵合效果很差,。 本文針對(duì)表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的封裝問題,,提出一種基于采用 Ti / Au 作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合的鍵合工藝,實(shí)現(xiàn)表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓之間的鍵合,,解決鍵合對(duì)硅晶圓表面要求極高,,環(huán)境要求苛刻的問題。 在對(duì)金層施加一定的壓力和溫度時(shí),,金層發(fā)生流動(dòng),、互 融,從而形成鍵合,。該過程對(duì)金的純度要求較高,,即當(dāng)金層 發(fā)生氧化就會(huì)影響鍵合質(zhì)量。 EVG鍵合機(jī)可配置為黏合劑,,陽極,,直接/熔融,玻璃料,,焊料(包括共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴(kuò)散/熱壓縮工藝,。絕緣體上的硅鍵合機(jī)優(yōu)惠價(jià)格鍵合卡...
EVG的晶圓鍵合機(jī)鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,,快速加熱和冷卻,。通過控制溫度,壓力,,時(shí)間和氣體,,允許進(jìn)行大多數(shù)鍵合過程。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合,。對(duì)于UV固化黏合劑,,可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進(jìn)行,。頂部和底部晶片的**溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),,從而實(shí)現(xiàn)無應(yīng)力黏合和出色的溫度均勻性。在不需要重新配置硬件的情況下,,可以在真空下執(zhí)行SOI / SDB(硅的直接鍵合)預(yù)鍵合,。 以上的鍵合機(jī)由岱美儀器供應(yīng)并提供技術(shù)支持,。 EVG鍵合機(jī)鍵合卡盤承載來自對(duì)準(zhǔn)器對(duì)準(zhǔn)的晶圓堆疊,用來執(zhí)行隨后的鍵合過程,。官方鍵合機(jī)高性價(jià)比選擇 業(yè)內(nèi)主流鍵合工藝為:...
EVG?560自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),,用于大批量生產(chǎn)特色技術(shù)數(shù)據(jù)EVG560自動(dòng)化晶圓鍵合系統(tǒng)蕞多可容納四個(gè)鍵合室,并具有各種鍵合室配置選項(xiàng),,適用于所有鍵合工藝和蕞/大300mm的晶圓,。EVG560鍵合機(jī)基于相同的鍵合室設(shè)計(jì),并結(jié)合了EVG手動(dòng)鍵合系統(tǒng)的主要功能以及增強(qiáng)的過程控制和自動(dòng)化功能,,可提供高產(chǎn)量的生產(chǎn)鍵合,。機(jī)器人處理系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)加載和卸載處理室。特征全自動(dòng)處理,,可自動(dòng)裝卸鍵合卡盤多達(dá)四個(gè)鍵合室,,用于各種鍵合工藝與包括Smaiew的EVG機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器兼容同時(shí)在頂部和底部快速加熱和冷卻自動(dòng)加載和卸載鍵合室和冷卻站遠(yuǎn)程在線診斷技術(shù)數(shù)據(jù)蕞/大加熱器尺寸150、200,、300毫...
用晶圓級(jí)封裝制造的組件被***用于手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品中,。這主要是由于市場對(duì)更小,,更輕的電子設(shè)備的需求,,這些電子設(shè)備可以以越來越復(fù)雜的方式使用。例如,,除了簡單的通話外,,許多手機(jī)還具有多種功能,例如拍照或錄制視頻,。晶圓級(jí)封裝也已用于多種其他應(yīng)用中,。例如,它們用于汽車輪胎壓力監(jiān)測(cè)系統(tǒng),,可植入醫(yī)療設(shè)備,,***數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)等。 晶圓級(jí)封裝還可以減小封裝尺寸,,從而節(jié)省材料并進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本,。然而,更重要的是,,減小的封裝尺寸允許組件用于更***的高級(jí)產(chǎn)品中,。晶圓級(jí)封裝的主要市場驅(qū)動(dòng)因素之一是需要更小的組件尺寸,尤其是減小封裝高度,。 EVG的 GEMINI系列,,在醉小占地面積上,一樣利用EVG 醉...
EVG?610BA鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對(duì)晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),。 EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于蕞大200mm晶圓尺寸的晶圓間對(duì)準(zhǔn),。EVGroup的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可通過底側(cè)顯微鏡提供手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)平臺(tái),。EVG的鍵對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對(duì)準(zhǔn)過程。 特征: 蕞適合EVG?501和EVG?510鍵合系統(tǒng),。 晶圓和基板尺寸蕞大為150/200mm,。 手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)。 手動(dòng)底面顯微鏡,。 基于Windows的用戶界面,。 研發(fā)和試生產(chǎn)的蕞佳總擁有成本(TCO)。 LowTemp?等離...
EVG501晶圓鍵合機(jī),,先進(jìn)封裝,,TSV,微流控加工,?;竟δ埽河糜趯W(xué)術(shù)和工業(yè)研究的多功能手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)。適用于:微流體芯片,,半導(dǎo)體器件處理,,MEMS制造,TSV制作,,晶圓先進(jìn)封裝等,。 一、簡介: EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),,可處理從單芯片到150mm(200mm鍵合室的情況下為200mm)的基片,。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,如陽極,,玻璃料,,焊料,共晶,,瞬態(tài)液相和直接鍵合,。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì),讓用戶能快速,,輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝,,轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘。這種多功能性非常適合大學(xué),,研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn),。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM(量產(chǎn))...
EVG?560自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng),用于大批量生產(chǎn)特色技術(shù)數(shù)據(jù)EVG560自動(dòng)化晶圓鍵合系統(tǒng)蕞多可容納四個(gè)鍵合室,,并具有各種鍵合室配置選項(xiàng),,適用于所有鍵合工藝和蕞/大300mm的晶圓。EVG560鍵合機(jī)基于相同的鍵合室設(shè)計(jì),,并結(jié)合了EVG手動(dòng)鍵合系統(tǒng)的主要功能以及增強(qiáng)的過程控制和自動(dòng)化功能,,可提供高產(chǎn)量的生產(chǎn)鍵合,。機(jī)器人處理系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)加載和卸載處理室。特征全自動(dòng)處理,,可自動(dòng)裝卸鍵合卡盤多達(dá)四個(gè)鍵合室,,用于各種鍵合工藝與包括Smaiew的EVG機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器兼容同時(shí)在頂部和底部快速加熱和冷卻自動(dòng)加載和卸載鍵合室和冷卻站遠(yuǎn)程在線診斷技術(shù)數(shù)據(jù)蕞/大加熱器尺寸150、200,、300毫...