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肉桂酸酯類的光刻膠：這類光刻膠在紫外光的照射下，肉桂酸上的不飽和鍵會打開,，產(chǎn)生自由基,，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。主要品種有聚乙烯醇肉桂酸酯光刻膠,、聚乙烯氧乙基肉桂酸酯光刻膠和肉桂叉二酯光刻膠等,。前者膠是早期被用于光刻膠制備的光敏高分子化合物，對二氧化硅,、鋁,、氧化鉻等材料都...

浸沒光刻和雙重光刻技術(shù)在不改變 193nm波長ArF光刻光源的前提下，將加工分辨率推向10nm的數(shù)量級,。與此同時,，這兩項技術(shù)對光刻膠也提出了新的要求。在浸沒工藝中,；光刻膠首先不能與浸沒液體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或浸出擴(kuò)散,，損傷光刻膠自身和光刻鏡頭；其次,，光刻膠的折射率必...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑,，是指通過紫外光、電子束,、離子束,、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂,、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體,。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料,。半導(dǎo)體材料在表面加工時...

在一些反應(yīng)中,，三氟乙酸作為母液需要回收，其重要目的是為了出去其中的水分,，但由于三氟乙酸易與水形成共沸物,，因此不能采用蒸餾的方法進(jìn)行分離。參照三氟乙酸純化工藝,，將三氟乙酸母液制成鈉鹽,，然后再用濃硫酸酸化，蒸出三氟乙酸,。在中和反應(yīng)中,，放熱較小，但由于反應(yīng)會產(chǎn)生大量...

干式無油真空泵(如耐化學(xué)腐蝕隔膜泵或干式渦旋泵)比較適合處理三氟乙酸（TFA）,。由于TFA的揮發(fā)性,，甚至幾毫巴足以有效蒸發(fā)。因此,，不需要深度真空,，例如由油潤滑旋轉(zhuǎn)葉片泵產(chǎn)生的真空，這可能使冷阱中溶劑蒸汽的收集更加復(fù)雜,。選擇冷阱時,，以下特性是**重要的：它的內(nèi)壁...

三氟乙酸是一種強(qiáng)酸,，其酸性比硫酸和鹽酸還要強(qiáng),。它可以與堿反應(yīng)生成相應(yīng)的三氟乙酸鹽。由于其強(qiáng)酸性,，三氟乙酸在有機(jī)合成中被廣泛應(yīng)用,。它可以作為催化劑，促進(jìn)酯化,、?；王０坊确磻?yīng)的進(jìn)行。此外,，三氟乙酸還可以作為溶劑,，在有機(jī)合成中起到溶解和催化的作用。其次,，三氟乙酸...

有一種三氟乙酸酐的合成方法,，先在反應(yīng)釜分散五氧化二磷并降溫，再快速加入三氟乙酸，回流反應(yīng)后開始常壓蒸餾,，之后適時滴加入高沸點酸,，使反應(yīng)體系溶解澄清，同時保持常壓蒸餾,，直至三氟乙酸酐被完全蒸餾出來,。本方法能克服三氟乙酸反應(yīng)不完全、三氟乙酸酐蒸餾不完全的技術(shù)問題,，...

在一些反應(yīng)中,，三氟乙酸作為母液需要回收，其重要目的是為了出去其中的水分,，但由于三氟乙酸易與水形成共沸物,，因此不能采用蒸餾的方法進(jìn)行分離。參照三氟乙酸純化工藝,，將三氟乙酸母液制成鈉鹽,，然后再用濃硫酸酸化，蒸出三氟乙酸,。在中和反應(yīng)中,，放熱較小，但由于反應(yīng)會產(chǎn)生大量...

此外,，光刻膠也可以用于液晶平板顯示等較大面積電子產(chǎn)品的制作,。90年代后半期，遵從摩爾定律的指引,，半導(dǎo)體制程工藝尺寸開始縮小到0.35um（350nm）以下,，因而開始要求更高分辨率的光刻技術(shù)。深紫外光由于波長更短,，衍射作用小,，所以可以用于更高分辨率的光刻光源。隨...

伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移,，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度,。同時，國內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期,，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點,，國內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張。當(dāng)前我國光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距,，半導(dǎo)體國產(chǎn)化的大趨勢...

根據(jù)2019年數(shù)據(jù),，全球半導(dǎo)體光刻膠**大廠商占據(jù)全球光刻膠市場87%份額。其中日本占有四家,，分別是JSR,、東京應(yīng)化(TOK)、信越化學(xué)與富士電子材料，這四家的市場份額達(dá)到72%,，市場集中度明顯,。在半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分領(lǐng)域，日本廠商在市場中具有較強(qiáng)話語權(quán),。（1）g...

分子玻璃是一種具有較高玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的單分散小分子有機(jī)化合物,，其結(jié)構(gòu)為非共面和不規(guī)則，能夠避免結(jié)晶,，與產(chǎn)酸劑具有優(yōu)良的相容性,。以分子玻璃為成膜樹脂制備的光刻膠能夠獲得較高的分辨率和較低粗糙度的圖形。金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機(jī)配體構(gòu)建其主體結(jié)構(gòu),，有機(jī)配體...

中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模增速超過全球,。隨著半導(dǎo)體制程節(jié)點不斷縮小，光刻工藝對光刻膠要求越來越高,，需求量也越來越大,。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù)，2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元,，年復(fù)合增速為5.4%,，預(yù)計未來5年年均增速約8%-10%；中國半導(dǎo)體用光刻膠市場...

分子玻璃是一種具有較高玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的單分散小分子有機(jī)化合物,，其結(jié)構(gòu)為非共面和不規(guī)則,，能夠避免結(jié)晶，與產(chǎn)酸劑具有優(yōu)良的相容性,。以分子玻璃為成膜樹脂制備的光刻膠能夠獲得較高的分辨率和較低粗糙度的圖形,。金屬氧化物光刻膠使用金屬離子及有機(jī)配體構(gòu)建其主體結(jié)構(gòu)，有機(jī)配體...

美國能源部布魯克海文國家實驗室的研究人員采用原子層沉積（ALD）系統(tǒng),，將有機(jī)聚合物聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）與氧化鋁結(jié)合起來,，創(chuàng)造了雜化有機(jī)-無機(jī)光刻膠。他們在將涂有PMMA薄膜的襯底放到ALD反應(yīng)室中之后,，引入了鋁前驅(qū)物蒸汽,。這個蒸汽通過PMMA基質(zhì)內(nèi)部的...

EUV(極紫外光)光刻技術(shù)是20年來光刻領(lǐng)域的進(jìn)展。由于目前可供利用的光學(xué)材料無法很好支持波長13nm以下的輻射的反射和透射,，因此 EUV 光刻技術(shù)使用波長為13.5nm的紫外光作為光刻光源。EUV（極紫外光）光刻技術(shù)將半導(dǎo)體制程技術(shù)在10nm以下的區(qū)域繼續(xù)推...

浸沒光刻和雙重光刻技術(shù)在不改變 193nm波長ArF光刻光源的前提下,，將加工分辨率推向10nm的數(shù)量級,。與此同時，這兩項技術(shù)對光刻膠也提出了新的要求,。在浸沒工藝中,；光刻膠首先不能與浸沒液體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或浸出擴(kuò)散，損傷光刻膠自身和光刻鏡頭；其次,，光刻膠的折射率必...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑,，是指通過紫外光、電子束,、離子束,、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,。由感光樹脂,、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,，用作抗腐蝕涂層材料,。半導(dǎo)體材料在表面加工時...

中國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模增速超過全球。隨著半導(dǎo)體制程節(jié)點不斷縮小,，光刻工藝對光刻膠要求越來越高,，需求量也越來越大。據(jù)智研咨詢數(shù)據(jù),，2018年全球半導(dǎo)體用光刻膠市場規(guī)模約13億美元,，年復(fù)合增速為5.4%，預(yù)計未來5年年均增速約8%-10%,；中國半導(dǎo)體用光刻膠市場...

歷史上光刻機(jī)所使用的光源波長呈現(xiàn)出與集成電路關(guān)鍵尺寸同步縮小的趨勢,。不同波長的光刻光源要求截然不同的光刻設(shè)備和光刻膠材料。在20世紀(jì)80年代,，半導(dǎo)體制成的主流工藝尺寸在1.2um(1200nm)至 0.8um(800nm)之間,。那時候波長436nm的光刻光源被...

伴隨全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)東移，加上我國持續(xù)增長的下游需求和政策支持力度,。同時,，國內(nèi)晶圓廠進(jìn)入投產(chǎn)高峰期，由于半導(dǎo)體光刻膠與下游晶圓廠具有伴生性特點,，國內(nèi)光刻膠廠商將直接受益于晶圓廠制造產(chǎn)能的大幅擴(kuò)張,。當(dāng)前我國光刻膠與全球先進(jìn)水平有近40年的差距，半導(dǎo)體國產(chǎn)化的大趨勢...

光刻膠的產(chǎn)業(yè)鏈上游：主要涉及溶劑,、樹脂,、光敏劑等原材料供應(yīng)商和光刻機(jī)、顯影機(jī),、檢測與測試等設(shè)備供應(yīng)商,。從原材料市場來看，由于中國從事光刻膠原材料研發(fā)及生產(chǎn)的供應(yīng)商較少,，中國光刻膠原材料市場主要被日本,、韓國和美國廠商所占據(jù),。從設(shè)備市場來看，中國在光刻機(jī),、顯影機(jī),、...

從90年代后半期開始，光刻光源就開始采用248nm的KrF激光,；而從2000年代開始,，光刻就進(jìn)一步轉(zhuǎn)向使用193nm波長的ArF準(zhǔn)分子激光作為光源。在那之后一直到目前的約20年里,，193nm波長的ArF準(zhǔn)分子激光一直是半導(dǎo)體制程領(lǐng)域性能可靠,，使用較多的光刻光源...

美國能源部布魯克海文國家實驗室的研究人員采用原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，將有機(jī)聚合物聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）與氧化鋁結(jié)合起來,，創(chuàng)造了雜化有機(jī)-無機(jī)光刻膠,。他們在將涂有PMMA薄膜的襯底放到ALD反應(yīng)室中之后，引入了鋁前驅(qū)物蒸汽,。這個蒸汽通過PMMA基質(zhì)內(nèi)部的...

環(huán)化橡膠型光刻膠：屬于聚烴類——雙疊氮系光刻膠,。這種膠是將天然橡膠溶解后，用環(huán)化劑環(huán)化制備而成的,。一般來說,，橡膠具有較好的耐腐蝕性，但是它的感光活性很差,。橡膠的分子量在數(shù)十萬以上,，因此溶解性甚低，無論在光刻膠的配制還是顯影過程中都有很大困難,。因此無法直接采用橡...

浸沒光刻：在與浸沒光刻相對的干法光刻中,，光刻透鏡與光刻膠之間是空氣。光刻膠直接吸收光源發(fā)出的紫外輻射并發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),。在浸沒光刻中,，光刻鏡頭與光刻膠之間是特定液體。這些液體可以是純水也可以是別的化合物液體,。光刻光源發(fā)出的輻射經(jīng)過這些液體的時候發(fā)生了折射,，波長變...

按顯示效果分類；光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠,。負(fù)性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩（掩膜版）相反,；正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,，區(qū)別在于主要原材料不同,。 按照化學(xué)結(jié)構(gòu)分類；光刻膠可以分為光聚合型,，光分解型,，光交聯(lián)型和...

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類，可分為 PCB 光刻膠,、顯示面板光刻膠,、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠。全球市場上不同種類光刻膠的市場結(jié)構(gòu)較為均衡,。智研咨詢的數(shù)據(jù)還顯示,，受益于半導(dǎo)體、顯示面板,、PCB產(chǎn)業(yè)東移的趨勢,，自 2011年至今，光刻膠中國本土供應(yīng)規(guī)模年華增長率...

X射線對物質(zhì)的化學(xué)作用類似電子束,，X射線曝光時,，X射線本身并不能直接引起光刻膠的反應(yīng)，它的能量是消耗的光電子放射過程而產(chǎn)生低能電子束上,。正是這些低能電子使光刻膠的分子離化,，并激勵產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，使光刻膠分子間的結(jié)合鍵解離,，或鍵合成高分子,，在某些顯影液中變成易溶或...

中美貿(mào)易摩擦：光刻膠國產(chǎn)代替是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的迫切需要；自從中美貿(mào)易摩擦依賴,，中國大陸積極布局集成電路產(chǎn)業(yè),。在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，光刻膠作為是集成電路制程技術(shù)進(jìn)步的“燃料”,，是國產(chǎn)代替重要環(huán)節(jié),，也是必將國產(chǎn)化的產(chǎn)品。光刻是半導(dǎo)制程的重要工藝,，對制造出更先進(jìn),，晶體管...